二手 EMITECH / EMCORE K575X #9250890 待售

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ID: 9250890
Sputter coater Does not include pump.
EMITECH/EMCORE K575X濺射設備是一種多用途、多目標的批量生產工具,具有獨特的濺射沈積技術。它是為半導體工業中的屏障/粘合層和金屬層等沈積應用而設計的。其設計具有良好的工藝控制、最小的維護和高純度沈積,具有靈活性和高生產率。該系統利用EMCORE專利磁控管濺射沈積工藝,在多種基質上形成受控的均勻沈積。這一技術提供了均勻的沈積速率、方向性和較低的電子輻射,從而提高了均勻性。此外,磁控管的使用降低了材料成本,因為濺射目標保持靜止,絕不需要更換。EMCORE K575X單元由一個五目標直驅濺射陰極構成,每個陰極最多可裝載四個濺射目標。這種直接驅動機器允許高沈積速率,同時提供統一的覆蓋範圍。它還提供了廣泛的處理時間和靈活的配方,以滿足生產工作負載的需求。EMITECH K575X利用精密運動控制器和自動化工具來控制濺射陰極的運動。這樣可以精確控制層的組成和厚度,並能夠對復雜層進行編程以實現最大的工藝效率。該資產還擁有兩個獨立的離子源,具有一定範圍的光束能量、電流和光束幾何形狀,以最大限度地提高沈積質量。濺射室設有集成的高速加工、基板背面冷卻以及旋轉和傾斜角特征。這確保了對各種平板基板的精確、均勻的塗層覆蓋,包括用於光伏電池和存儲器組件的半導體晶片。K575X由潔凈室環境電源供電,並帶有額外的屏蔽裝置,以實現最大的安全性。此外,該模型設計符合全球安全標準,可與APC/MPC等過程控制系統集成。總體而言,EMITECH/EMCORE K575X濺射設備是一種易於使用、可靠和高效的濺射沈積工具。它非常適合半導體工業的高通量塗層和屏障/粘合層應用。它以高吞吐量速度提供精確且經濟高效的沈積,同時確保清潔環境中的最大安全性。
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