二手 EVATEC Radiance #9130079 待售

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製造商
EVATEC
模型
Radiance
ID: 9130079
優質的: 2010
Sputtering deposition system Load lock and handling system Transfer module Single target Temperature: 10-50 degree C Relative humidity: 30-80% Shared fore line pump: EDWARDS GX100L LL TMC Pump: PFEIFFER TMH261 TC TMC Pump: PFEIFFER TMH521 (2) Batch process modules (BPM) Process chamber Turn table Wafer chucks Shared Fore line pump: EDWARDS GX100L Turbo pump: PFEIFFER Highpace 2301 CTI Inline water pump Chamber conditioning unit Baratron process gas measurement gauge Base pressure: <9E-8 mbar (2) Process sources SSC 300 Planar magnetron SSC300 (1) DC Power supply 5kW (3) Mass flow controllers Rack cabinet Control system Chamber shield for each process module 80-100 A, 50 Hz, 1200 VAC 2010 vintage.
EVATEC Radiance是EVATEC, Inc.提供的濺射設備。它旨在為薄膜的生產提供高通量濺射。輻射系統采用傳統的濺射方法,利用磁控管濺射與二極管和三極管濺射構型。它為平面和圓柱沈積提供了廣泛的旋轉和固定目標。EVATEC輻射裝置具有沈積各種材料的能力,包括金屬、合金、氧化物、氮化物和非晶態材料。生產的溫度範圍是從室溫到高達400°C。輻射機能夠沈積所有材料形式,如薄膜、多層和蒸氣分散層。它還可用於創建細微的特征和有限的線寬和空間寬度的納米結構。該工具適用於高長寬比沈積,能夠通過多種方式定位沈積目標。EVATEC Radiance資產還提供先進的傳感器技術,可以精確控制沈積室內的氣流。這確保了氣體混合物在室內的均勻分布。先進的傳感技術還提供溫度感測能力,允許精確的溫度控制,以便制造更均勻的薄膜。先進的傳感器技術還可以實現更快的沈積和更高的吞吐量。Radiance模型還提供遠程控制功能,使用戶能夠遠程控制和監視設備。這包括監測沈積速率、沈積時間和目標的運動控制。EVATEC Radiance系統還配備了人機接口(HMI),用於設置操作參數、目標選擇、配方等參數。總體而言,Radiance濺射裝置具有多種特性和功能,非常適合薄膜生產。它專為生產和研究應用而設計,為用戶提供精確的控制和出色的性能。
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