二手 LEYBOLD HERAEUS Z700 #65623 待售
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ID: 65623
Automatic sputtering system
Z700 stainless steel process chamber (ca. 710mm height x 710mm dia) on a coated mild steel frame
Chamber fitted with various flanges and ports
2 pair (4) PK 500 sputter cathodes with teflon isolators, magnets and 1 atmospheric boxes for inner cathodes
Inner chamber shielding kit
Substrate rotation stage incl. feed through, drive and drive gear
Sample/substrate stage will be supplied according to customer specification
V1, V2, V3 and V4 valves (chamber, rough vacuum, bypass and venting)
(3) MFC with shut off valves
Water distribution manifold with 6 lines
Each line has a pneumatically operated shut off valve in supply and flow monitor in the returns fitted.
Option 1:
Vacuum measurement system (1 no. rough vacuum and 1 no. high vacuum gauge, 1 no. MKS Baratron process gauge)
Option 2:
(4) heaters, 1.1 kW each (2 no. inside substrate carrier stage, 2 no. outside the stage)
Option 3:
(1) Leybold DK200 rotary vane rough vacuum pump
(1) Leybold RUVAC 501 booster pump
(3) Leybold TMP1000c turbo pumps with NT1000/1500 controllers
(1) stainless steel buffer box for mounting of (3) TMP1000c turbo pumps
Vacuum measurement system (1) rough vacuum and (1) high vacuum gauge, (1) MKS Baratron process gauge)
Option 4:
DC Power supplies (4) 6kW DC power supplies for DC sputtering.
LEYBOLD HERAEUS Z700是為薄膜材料在表面上沈積而設計的濺射設備。它是一種先進的柔性濺射系統，為抗反射和電致變色塗層、半導體封裝、DBR（分布式布拉格反射層）層等應用產生精確而均勻的塗層。該裝置具有若幹優點，是可靠、深入的薄膜沈積工藝的理想選擇。Z700的第一個優點是其廣泛的處理靈活性。該機配備了多種工藝和腔室配置，使用戶可以快速、方便地訪問獨特的配置。LEYBOLD HERAEUS Z700的腔室容積為200升，一次最多可操作8個目標，從而允許多層沈積。它還具有用於原位工藝的高效氣體噴射工具，以及用於超清潔、高精度結果的超高真空（UHV）儲罐。此外,Z700還擁有一個高級控制資產,該資產具有自動化的多步驟配方,可完全定制濺射過程。LEYBOLD HERAEUS Z700的第二大優勢是其卓越的生產力。該模型提供了比傳統濺射系統高10倍的沈積速度，層層沈積速率高達465納米/分鐘。這使得它適用於高品質薄膜的批量生產。該設備還包括一個自動化的可編程數字顯微鏡，使用戶能夠快速和方便地檢查沈積膜的質量。Z700的第三個優點是性能可靠。該系統配備了先進的故障檢測技術，可以分析濺射過程，在需要時自動關閉設備。此外，LEYBOLD HERAEUS Z700采用先進的冷卻機設計，可確保最佳溫度穩定性，降低濺射目標熱損傷的風險。此外，該工具還配備了電子反饋資產，用於實時反饋工藝參數和性能。總體而言，Z700是為各種薄膜材料的沈積而設計的先進、高效、可靠的濺射模型。LEYBOLD HERAEUS Z700具有廣泛的加工靈活性、卓越的生產效率和可靠的性能,是快速、準確、可靠的薄膜沈積工藝的理想選擇。
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