二手 MRC 603 I #9107596 待售

MRC 603 I是一種濺射設備，設計用於微電子、平板顯示器和相關薄膜工程領域。該系統集成了多個濺射源和高性能等離子體處理器，生產出具有出色均勻性的高品質薄膜塗層。該單元具有單個目標濺射室、雙磁控管濺射頭和室內弧源。濺射室可容納高達8英寸（203毫米）直徑的晶片和內置在機器中的多種特性，可以方便地裝載和卸載基板。603 I工具提供了廣泛的濺射目標材料，從金和鉑等貴金屬到鋁、鈷和鉻等導電和半導體材料。雙頭磁控管具有對功率水平、偏置電壓和溫度的獨立控制，允許精確精確的薄膜沈積。該電弧源使用的是氙氣作為工作氣體，它對等離子體環境提供了特殊的控制，從而能夠精確地控制薄膜表面和性能。MRC 603 I提供了廣泛的過程靈活性。兩個目標源均可獨立控制濺射的射頻功率、脈沖頻率和占空比，便於優化每種材料的沈積過程。腔內弧源允許產生高反應性物種，用於表面修飾和氮化。它還提供了一種方法來增強薄膜與底物的粘附，而無需額外的化學過程。603 I具有先進的過程控制軟件,用於實時監控和記錄濺射參數。這樣可以方便地識別過程問題和精確的過程控制。此外,該資產還包括高級數據分析功能,允許對工藝參數進行微調,以實現最佳的薄膜性能。該軟件還允許方便的數據傳輸和存儲功能,從而方便地共享膠片數據以及開發和定制濺射過程。總體而言，MRC 603 I是一款高性能濺射模型，其設計和配置滿足微電子、平板顯示器等薄膜工程應用的需求。603 I以其廣泛的目標材料、強大的弧源和先進的軟件監控能力,提供出色的薄膜沈積,具有很高的均勻性和可重復性。