二手 MRC 603 II #9011265 待售

MRC 603 II是Applied Materials的先進濺射設備。它利用模塊化設計提供靈活性和可擴展性,以確保客戶能夠調整系統以滿足其特定需求和需求。該裝置包括一個單一的源，即可提供多達18個目標的直流濺射源，用於在平面和彎曲基板上沈積，以及一個能在同一工件上提供多達3個目標沈積的氙氣短脈沖源。MRC 603-II具有較高的吞吐量能力,使其能夠處理大面積的基板以及處理諸如光學濾波器之類的精細基板。這臺機器提供了出色的端點檢測功能以及流程可重復性,使其能夠提供一致和高質量的結果,而不管流程的復雜性如何。603 II還包括先進的自動化過程控制工具，能夠控制單個目標、順序目標、多目標和均勻的濺射層。這樣可以確保即使在復雜的過程中也能保持工藝條件和基板的均勻性。此外,它還具有負載鎖定功能,可輕松、安全地傳輸基板,以及可選的清潔室兼容滾動和模塊化系統,適用於大型應用程序。該資產還與數字註射器控制系統高度兼容，允許超細覆蓋控制。綜合測量模型可以監測沈積速率和端點檢測。此外,設備還具有實時配方控制功能,以確保流程保持一致和可重復。對於需要高吞吐量、重復性和統一性的工具,603-II是一個絕佳的選擇。它專為需要高質量薄膜的高端應用而設計，適用於各種濺射應用，如平板顯示器、半導體、MEMS、光學、數據存儲等。