二手 MRC 603 #9206603 待售

MRC 603是由Materials Research Corporation制造和銷售的高性能濺射設備。該系統專為需要超光滑、高沈積速率、保形入層沈積的應用而設計。該單元由幾個組件組成，包括一個預清潔室、一個高真空沈積室、一個高壓氣體隔片、一個電源和一個真空控制模塊。該機的預清洗室配備了先進的低壓、高強度微波和EUV光源。該腔室用於在濺射沈積之前預先清潔基板表面。這有助於優化表面清潔度和沈積膜的附著力。在高真空沈積室中進行沈積，該室用高真空隔片密封。原位壓力可調0.1 mtor至20 torr，工藝氣體可調1至99%，允許薄膜在很寬的壓力範圍內沈積。電源提供了範圍廣泛的射頻功率水平和從10 kHz到5 MHz的穩定頻率。基材在濺射過程中旋轉，以確保膜沈積均勻。一個範圍的沈積氣體，如氙氣、氧氣和氮氣可以被用來達到所需的金屬化效果。采用不同比例的堿性和稀有氣體可以產生廣泛的沈積速率。真空控制模塊允許在整個沈積過程中保持穩定的底壓。603是優質薄膜沈積的理想濺射工具。該資產可以容納從KOH晶體和石英玻璃到厚晶圓和電路板的各種基材。該模型也適用於多種高性能薄膜技術，包括物理氣相沈積、化學氣相沈積、濺射、磁控管濺射。最後，該設備可靠性高，使用方便，是科學界人士的理想選擇。