二手 MRC 603 #9232339 待售

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製造商
MRC
模型
603
ID: 9232339
Sputtering system (3) Target units With RF etch Chamber an analog DC bias supply CTI Cryo compressor Wet mechanical pump.
MRC 603是一種磁控管濺射設備,設計用於薄膜的可重復沈積。它是一個通用的系統,是一個很好的工具,可用於各種應用,包括表面分析、薄膜塗層和一系列基板的保護塗層,包括金屬、塑料和陶瓷。此單元提供獨特的特性和優勢組合,使用戶能夠獲得最高質量的表面塗層。603濺射機包括多種部件和工藝,包括:大功率磁控管濺射頭;短期記憶濺射氣體調節器;可選的高性能真空室;石英背盾;以及一個集成的計算機控制中心。這些組件可實現最大的濺射效率和可重復的性能。此外,該工具還具有氣動快門,可有效處理多種基板,以及用於防止操作員失誤的調試/安全控制資產。MRC 603磁控管濺射頭可實現最大的沈積速率和一致的濺射性能.它包括一個高功率的冷陰極磁控管,具有獨特的石英屏蔽陰極,以消除任何濺射碎片損壞的風險。這種高性能的濺射頭包括一個可調濺射氣體調節器,最多有四個獨立的用戶可選擇的壓力設置,以滿足不同的工藝要求。濺射頭安裝在一系列運動控制軸上,從而能夠對濺射角度和位置進行精細控制。603濺射模型還具有用戶友好的計算機控制界面,允許操作員設置和控制真空壓力、濺射速率、腔室溫度、沈積時間等幾個參數。計算機控件還存儲所有使用材料的數據,包括生產日期和濺射速率,因此濺射參數可以輕松準確地復制。MRC 603設備能夠創造最優質的表面和塗層,具有可重復、可靠的性能。它適用於從醫療、汽車到航空航天等多個行業,使用戶能夠快速、經濟高效地實現自己期望的成果。該系統非常適合實驗室、研究設施和其他需要為不同目的對基板進行可靠薄膜塗層的環境。
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