二手 MRC 643 #193489 待售

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MRC 643
已售出
製造商
MRC
模型
643
ID: 193489
Sputtering system (2) cryo pumps, (2) 13"x13" cathodes targets and (1) blank target (1) Alumnium cathode, (1) Titanium, (1) blank RF Power Supply and DC Generator 208 V, 100 A, 50 Hz, 3 Ph Chamber still under vacuum MRC 8080 Microprocessor controller Pumps down to 10^-7 Torr.
MRC 643是MRC有限公司設計的多功能濺射設備。它利用雙源磁控管直流電源將金屬或氧化物沈積在基板上,非常適合廣泛的應用。該系統還提供三個獨立的目標,其組合目標面積最大為800mm寬,並且可以接受直徑最大為6"的晶片和直徑最大為200mm的基板。643單元允許同時濺射單目標和多個目標,以提高生產率,並進一步使多層薄膜沈積。該機還具有可編程參數如直流電壓、氣體控制和腔室溫度的綜合工藝控制單元。此外,該工具還允許輕松調整流程參數,以適應每個應用程序的特定要求。在安全性和可靠性方面,MRC 643設計具有多種安全特性,包括內置控制資產和20元氣體監測模型。設備還包括三重顯示器和一系列警告燈,提醒操作員註意任何故障或嚴重情況。643是一個高效、健壯的系統,非常適合各種濺射沈積環境。憑借其先進的安全特性、多重濺射目標以及沈積復雜層的能力,該單元非常適合薄膜太陽能電池、生物材料塗層、集成電路塗層等應用。此外,憑借其控制單元和可調節的工藝參數,機器能夠處理多種材料的簡便和準確的一系列不同的應用。
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