二手 MRC 643 #9035812 待售

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MRC 643
已售出
製造商
MRC
模型
643
ID: 9035812
Sputtering system (2) cryo pumps, (2) 13"x13" cathodes targets and (1) blank target (1) Alumnium cathode, (1) Titanium, (1) blank RF Power Supply and DC Generator 208 V, 100 A, 50 Hz, 3 Ph Chamber still under vacuum MRC 8080 Microprocessor controller Pumps down to 10^-7 Torr.
MRC 643是一種最先進的濺射設備,配備了幾種先進的功能,可用於一系列應用。該系統采用磁控管濺射技術,可以在半導電和非導電基板上沈積塗層。該單元由兩個腔室組成,允許同時濺射兩個不同的目標。腔室尺寸是可調的,使得各種尺寸的材料可以沈積。643包括懸浮控制機以提供沈積的均勻性,並已被證明在細膩的表面上實現了前所未有的薄膜塗層。該工具配備了射頻電源,提供了廣泛的功率輸出和用於濺射各種目標的優化電源。這種射頻電源允許增加沈積速率、提高均勻性和提高效率。此外,該資產還可以選擇三種不同的工藝氣體來實現不同類型的沈積,如聚氯乙烯、聚氯乙烯和磁控管濺射。MRC 643還具有每個工藝的多個基板,從而提高了吞吐量。這使得該模型非常適合大規模生產。在精密應用方面,643提供了TIR(總內反射)X射線衍射能力,便於確定薄膜厚度。最後,該設備包括用於沈積過程遠程監控、運動控制和精密機器人端效應器的軟件和硬件。這樣可以提高自動化程度,並有助於降低與手動設置和操作相關的成本。總之,MRC 643是一個先進的濺射系統,提供了無與倫比的精度和性能水平。它具有高度可定制性,非常適合各種應用程序,使其成為任何尋求可靠且經濟高效的濺射技術的公司的理想選擇。
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