二手 MRC 902 #9171689 待售

MRC 902是為薄膜沈積而設計的先進濺射設備。它利用直流電（DC）或射頻（RF）電源產生一個稀薄的含有高能離子的等離子體，然後撞擊基板和目標材料表面，引起濺射。902濺射系統由真空室、目標支架、基板支架和電源組成。真空室是單元的主室，是發生濺射過程的地方。它必須是密封的，必須能夠達到和保持真空。目標持有者持有濺射目標材料，這可以是不同的組成取決於所需的薄膜材料。基板支架用於固定薄膜將被沈積在其上的基板。電源是用來產生等離子體的動力源；它可以是直流或射頻。機器有一個額外的原位氧氣壓力控制器，可用於在濺射過程中調節氧氣壓力，以獲得更好的薄膜質量。為確保均勻的薄膜沈積，將目標安裝在可旋轉的護罩上，該護罩為基板提供均勻的覆蓋。為了啟動濺射過程，真空室必須撤離。使用兩種泵：一種是達到低壓的粗加工泵,另一種是進一步降低壓力的擴散泵。一旦壓力足夠低，電源就用來在腔內產生等離子體。等離子體中的高能離子隨後會撞擊到底物和靶上，引起濺射。濺射材料升華，然後在基板上凝結，形成薄膜。該過程可以進行機械調整,並且易於用戶使用。該工具配備了自動控制資產，可以讓用戶輕松調整濺射的參數，例如電壓和電流。它還有一個數據記錄模型，可用於實時監視進程並記錄任何更改。MRC 902濺射設備為薄膜沈積提供了絕佳的平臺。適用於廣泛的應用，如生產導電、光學、保護性薄膜。具有高能效,生產均勻、均勻、性能優良的薄膜塗層.