二手 MRC 903 series #9009095 待售

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製造商
MRC
模型
903 series
ID: 9009095
Sputtering system For RF/DC sputtering RF etch Substrate heating Not included: Cryo's.
MRC 903系列是利用濺射沈積技術的高精度真空工藝設備。它旨在為各種基板上的薄膜提供先進的均勻覆蓋。MRC 903利用磁控濺射法(Magnetron Sputtering Process, MSP),這是一種高效、低壓碳基沈積工藝。這一過程能夠在各種基材上產生高度均勻的薄膜覆蓋。該系統配備了低壓室、最多三個陰極、負載鎖室、高級工藝控制和NIST可追溯厚度測量等一組魯棒特性。該單元通過使用渦輪泵浦擴散類型將腔室排空來創建真空環境。這種真空允許有效和均勻的濺射過程。腔室最多支撐三個陰極,用於將目標材料濺射到基板上。陰極通過調整施加的電流和/或交叉磁體布置的位置進行調諧,以優化塗層均勻性。這臺機器還配備了先進的工藝控制工具,可以優化工藝參數。資產還允許使用兩步載荷鎖定室。載荷鎖室用於將基板引入腔室而不暴露於環境中。當放置在鎖室內部時,基板由真空維持,以盡量減少周圍環境氣體的暴露。這有助於確保基材的純度並產生更可靠的結果。一旦需要所需的薄膜,就會使用NIST可追蹤厚度測量模型來測量它們的精度。該設備準確地確定了所沈積薄膜的確切厚度。903系列可以實現復雜幾何形狀濺射材料的均勻分布,是精密薄膜塗層的理想選擇。總體而言,MRC 903系列是一個強大的濺射系統,能夠提供高精度的均勻薄膜塗層在各種基板。利用磁控管濺射過程,允許低壓、高效、一致的過程。此外,先進的工藝控制、NIST可追蹤厚度測量和兩步載荷鎖室提供了薄膜的精密沈積。
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