二手 MRC 903M #126500 待售

MRC 903M是一種濺射設備，用於將材料薄膜沈積到基板上。它是一種利用磁增強反應濺射技術沈積薄膜的真空塗層系統。這一單元能夠提供高速率、均勻的薄膜和工藝控制選項，從而實現極高質量的塗層。與其他沈積技術不同，MRC 903 M濺射機利用一系列磁場來增強濺射氣體的能量，允許廣泛的材料快速沈積。903M使用一個真空室，它包含一個基板表和一組盤片，用來容納用於濺射過程的目標材料。這些盤片連接到具有可變設置的電源,從而可以精確控制薄膜的沈積速率和厚度。在腔室內部，基板臺被一組磁控管濺射槍包圍，使氣體與目標發生反應。隨著濺射氣體註入真空室，電子被磁場加速產生高能離子束或粒子束轟擊目標表面，將材料沈積到基板上。903 M濺射工具被證明是薄膜研發的寶貴工具，使得一系列材料和基板表面得以塗覆。MRC 903M的應用範圍包括多種耐溫耐磨材料，包括貴金屬和陶瓷薄膜。該資產還被用於存放微電子工業中使用的絕緣膜。MRC 903 M系統是模塊化的,可以根據一系列要求進行定制,從而確保質量和經濟高效的生產。配備903M的標準版車型能夠提供均勻的均勻性和可重復性，讓高質量的薄膜沈積。903 M的靈活性使得在沈積過程中可以調整和微調廣泛的參數，包括光束能量或電壓、電流、目標數、沈積速率、沈積時間和目標材料。該設備確保了薄膜沈積的可重復性和準確性，提供了非常高質量的塗層。總體而言，MRC 903M濺射系統是薄膜沈積的一個非常寶貴的工具，能夠高精度地沈積各種材料。該單元對濺射氣體的磁性增強，使得廣泛的材料能夠快速沈積，其提供具有出色均勻性和可重復性的優質薄膜的能力，使其成為薄膜研發的理想選擇。