二手 MRC Eclipse #9225158 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

製造商
MRC
模型
Eclipse
ID: 9225158
晶圓大小: 8"
優質的: 2009
Sputtering system, 8" Chamber 1: Process: ALSI Chamber 2: Process: TI Chamber 3: Process: AL Sputter chamber 1 / 2 / 3: Type, 8" DC Power: AE Cryo pump: CTI 8F RF Chamber: Process: Hard etch RF Power: AE Cryo pump: CTI 8F Main frame: Robot type, 8" Alignment Load lock cryopump: CTI Onboard 8 Compressor: Type 1: (2) 9600 Type 2: SUZUKI EBARA A10S Dry pump System monitor: Front panel Remote control 2009 vintage.
MRC Eclipse是MRC為精密薄膜沈積而設計制造的先進濺射設備。多目標濺射系統是材料研究、工藝開發、批量生產、質量控制應用的高生產率工具。該裝置采用高性能濺射技術,在各種尺寸和組成的基板上沈積均勻的薄膜。Eclipse的設計和構建具有各種創新功能,使其能夠快速準確地沈積具有接近原子層精度的薄膜。MRC Eclipse配備了一套通用組件,允許用戶根據自己的特定需求配置機器。該工具利用具有2、3或4個目標功能的high-T5直流磁控管濺射源、用於控制工作環境的離子源以及用於真空管理的可選泵送資產。Eclipse還具有先進的控制器,允許用戶實時控制和監控濺射過程,從而實現對濺射參數如沈積速率、氣流和基板溫度的精確控制。MRC Eclipse設計用於多種應用,包括太陽能電池的薄膜沈積、顯示器、電子顯微鏡等等。該車型的先進特點和多重目標能力使其適合材料研究、工藝開發、批量生產和質量控制。Eclipse還被設計為與多種基板和目標材料兼容,使其成為許多不同薄膜沈積項目的理想選擇。MRC Eclipse是一種可靠的濺射設備,設計用於精確一致的薄膜沈積。它是各種應用的理想選擇,為用戶提供高性能的濺射功能和精確的薄膜沈積。該系統設計方便快捷的安裝和操作,先進的控制器確保精確一致的濺射操作。Eclipse是尋求可靠高效濺射裝置的研究人員和制造商的絕佳選擇。
還沒有評論