二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II #9093156 待售

MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II是一種革命性的濺射設備，用於將材料薄膜沈積到基板上。它利用大量專有技術來確保均勻性、統一性和可重復性。該系統旨在滿足先進研究和生產作業的需要，允許將小於5nm的顆粒精確地沈積到晶片上。該單元基於一個三軸機器人平臺，具有多個濺射源。這些源與目標對齊,目標可以是扁平晶圓或圓柱形樣品。該機提供了高達2000nm厚度的單層和多層薄膜的快速、準確和可重復的濺射沈積。該工具具有允許用戶通過MRC Eclipse Mark II軟件創建多種沈積配方的獨特優勢。濺射源可以獨立編程,從而使用戶能夠自定義目標「薄膜」層的空間沈積模式。此外，革命性的TEL Eclipse Mark II提供穩定的沈積速率，無論沈積的材料類型或目標基板的大小。此外，這一資產還可以精確控制薄膜成分和厚度。Eclipse Mark II還具有自動清洗周期，以清除沈積過程中留下的汙染物和薄膜碎片。這是通過直流等離子體蝕刻技術完成的，該技術可以防止材料內的任何損失沈積。這個清洗過程可以簡單的編程到TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II軟件中，以方便且可重復的清洗程序。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark II也加入了先進的溫度控制模型。這允許整個設備的溫度均勻，這在將薄膜沈積到基板上時至關重要。在沈積過程中，MRC Eclipse Mark II具有編程調節基板溫度的能力，確保沈積過程中其熱維穩定。總體而言，TEL Eclipse Mark II是一種革命性的濺射系統，它為將材料薄膜沈積到基板上提供了前所未有的精度和準確性。借助Eclipse Mark II等高級控制軟件,用戶可以快速輕松地為各種所需的應用程序配置沈積過程。此外，先進的溫度控制和自動清洗能力確保了最高水平的準確性和可重復性。