二手 MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9199385 待售

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ID: 9199385
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6" Not included: Pumps SPUT Process chambers: SPUT1: Cathode: RM-12 Magnet pack type: RMX C/S Spacing: 2.0" Adapter type: Profiled Target material: TiW Shield material: Plasma spray (2) Pie pan shields Gas ring Reactive gas: No Regas injection: Rear Argon MFC size: 200 sccm Backplane type: MXB Quick cool type: Air DC Power supply: 10 kW Target change kit: No RF Bias network: No Fast regen cryo SPUT2: Cathode: RM-12 Magnet pack type: RMX C/S Spacing: 2.0" Adapter type: Profiled Target material: Ru Shield material: Plasma spray (2) Pie pan shields Gas ring Reactive gas: No Regas injection: Rear Argon MFC size: 200 sccm Backplane type: MXB Quick cool type: Air DC Power supply: 10 kW Target change kit: No RF Bias network: No Fast regen cryo SPUT3: Cathode: RM-12 Magnet pack type: SPA C/S Spacing: 2.5" Target material: Au or Au/5%Ni Shield material: SS (2) Pie pan shields: No Gas ring: No Reactive gas: Kr Regas injection: Rear Argon MFC Size: 200 sccm Backplane type: MXB HTB Quick cool type: Air DC Power supply: 10 kW Target change kit: No RF Bias network: No Fast regen cryo SPUT4: No Etch: Hard/Soft etch type: Soft etch ICP Adapter type: New style Quick change kit: No Shield material: SS (2) Pie pan shields SE Adapter shield: No Gas ring: No Reactive gas: No Regas injection: Door Backplane type: Round Quick cool type: Water Variable ICP network: No RF Bias network: Finger Fast regen cryo Bell jar cycle count Loadlock/Plenum: Loadlock atmosphere sensor: Old style Plenum gate valve: Vat L/L Cryo fast regen Plenum cryo fast regen RGA Type: No Index cycle counter: No Wafer handling: Wafer: Type: Si / SEMI Tab type: Clamp Clamp ring material: SS C/R Edge exclusion: 1.5mm Latch type: SS Bearing MFC Vendor: MKS Equipe/PRI Robot: CE Equipe/PRI Controller: 100 Series Index stepper cont. loc: Vacuum tank Index drive type: Solarus Aligner type: Equipe/PRI L/A Latches enabled SMIF Interface: No Laminar blower Facilities/Utilities: Pump: QDP80 AC Voltage: 208 V AC Frequency: 60 Hz PDU Set for 50 Hz: No 208 Buss bar in PDU GFI in PDU Cryo compressor type: 9600 Compressor power / Pump power from PDU Water lines Currently de-installed.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV是一種濺射沈積設備,設計用於按照嚴格的標準處理各種半導體結構和器件。MRC Eclipse Mark IV通過改進多軸運動和沈積室技術,為半導體制造提供了更高的產品質量和更高的吞吐量。TEL Eclipse Mark IV利用兩種不同類型的濺射沈積。第一種是直接電流濺射(DCSP),用於濺射蝕刻。它使用直流電源產生離子,這些離子轟擊基板表面,並根據需要去除和沈積基板上的材料。這種方法對於精密蝕刻特別有用。其次是用於濺射沈積的高速率失衡磁控管濺射(HRuMS)。該技術利用真空室中產生的高能等離子體將材料電離並沈積在基板上。磁控管是一種電磁體,用於塑造和聚焦等離子體,以達到比傳統的濺射沈積技術更高的沈積速率。Eclipse Mark IV還具有先進的運動技術。運動自動化確保了基板和材料準確地輸送到腔室。該系統還確保在放置和安裝基板時具有很高的準確性和可重復性。此外,該裝置利用閉環控制機來精確控制沈積室的運動,確保所有部件平穩準確地移動到精確的位置。TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV提供精確靈活的基板加熱工具,允許溫度範圍為20°-400°C。該資產設計為提供最大的熱均勻性,並配有熱板和散熱器。該加熱模型提供了廣泛的基材尺寸和形狀進行處理。MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV利用先進的真空控制技術,為每個工作保持一致和清潔的加工條件。該設備設計為提供一個一致的大氣層,最大腔室壓力為6 Torr。此外,該系統還采用了CryoDiode塗層,以最大程度地減少單元汙染。這種塗層也可以用氧氣監測器就地監測。此外,還包括壓力平衡的自動基板淋浴,用於有效的基板加工。來自MRC的MRC Eclipse Mark IV提供了先進的沈積、運動、加熱和真空控制技術,以按照嚴格的標準制造半導體結構和器件。與傳統的沈積系統相比,它提供了更高的產品質量和更高的吞吐量,是半導體制造的理想選擇。
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