二手 PERKIN ELMER 4400 #169590 待售

PERKIN ELMER 4400是一種濺射設備，利用高真空環境將金屬或其他材料的薄膜沈積到基板上。這一過程是在通常由圓柱形腔室、接地基板支架和安裝在電機驅動主軸上的目標組成的腔室中進行的。基板放置在支架上，目標放置在腔室的主軸上，然後將其排空至0.1-0.3 mTorr或更高的底壓。然後，腔室又重新填充了一種氣體，這種氣體典型地是氙氣，壓力為4-10 mTorr。主軸由直流電源驅動，在腔內產生電場，目標被帶電粒子如Ar+或ArXe+離子轟擊。這些顆粒導致目標材料濺射，沈積在基板上形成薄膜。為確保達到均勻覆蓋，目標通常在濺射過程中旋轉。根據所需的沈積材料,可以使用不同的目標,並且可以通過改變提供給直流電源的電源來控制沈積速率。另外，可以使用不同的氣體來修改所產生的薄膜。例如，Ar濺射時使用氧氣會增加沈積膜對氧氣的親和力，從而增加膜對底物的附著力。4400濺射系統是為滿足薄膜沈積的嚴格要求而設計的先進裝置。它配備了先進的真空監控器，允許用戶在沈積過程中監測和調節真空壓力。它還配備了獨特的自動開室程序，可以在不打破真空的情況下交換目標。這臺機器有幾個高級功能，如快速啟動功能，減少了啟動和運行工具所需的時間，以及快速停止功能，快速安全地關閉資產。綜上所述，PERKIN ELMER 4400濺射模型是一種高度先進的設備，它為用戶提供了一種快速受控的薄膜沈積方法，以創造廣泛的應用。它非常適合創建纖薄的材料層,如太陽能電池應用或醫療應用。其獨特的特點和用戶友好的設計使其成為創造可靠、經濟高效的薄膜沈積的理想系統。