二手 PERKIN ELMER 4450 #9142022 待售

PERKIN ELMER 4450濺射設備是一種先進的、獨立的物理氣相沈積（PVD）設備，經過設計，能夠提供出色的和可重復的薄膜沈積能力。這一過程涉及用離子轟擊固體目標材料，從而使可用於制造復雜結構的薄膜沈積物濺出。該系統提供多種濺射源，包括平面磁控管源、定向直流磁控管源和二極管源。與化學氣相沈積等其他工藝結合時，4450可用於生產多種先進材料。增強的薄膜均勻性和可控表面性能是PERKIN ELMER 4450的關鍵特征。該單元以柔性多區工藝室為基礎，泵送速度大於6升/秒。它設計為提供出色的腔室和基板溫度控制，具有從室溫到250攝氏度的精確溫度控制分辨率。該機可用於各種金屬、金屬合金、氧化物等材料的沈積。它提供高吞吐量和高可重復性以及低擁有成本。該工具配備了一個可編程的基板偏置高達± 300V和高達± 190V直流電（DC）磁控管濺射源。它還提供了出色的高濺射速率和低離子損傷，因為使用了無汙染、超高真空相容的過程氣體，如氙氣、氮氣、氧氣和二氧化碳。4450是PVD應用的理想資產，包括薄膜電介質、半導體膜、金屬膜、金屬氧化物和氮化物、PIN二極管和光學塗層。該模型提供了良好的工藝控制，使薄膜的可靠沈積具有精確的成分控制。對可再現薄膜沈積具有較高的沈積速率和精確的參數控制。此外,它的低擁有成本和緊湊的占地面積有助於最大限度地減少停機時間並最大限度地提高實驗室空間效率。