二手 SEMICORE SC9900 #9213729 待售

SEMICORE SC9900 Sputtering Equipment是為薄膜沈積而設計的最先進、多目標、鎖定負載的濺射系統。它配備了多式聯運濺射技術的最新進展，在大面積上提供高速率、均勻的薄膜塗層。SC9900設計用於處理各種工作負載,並提供可重復、一致的生產結果。濺射單元SEMICORE SC9900有一個帶兩個陰極的鎖載真空室。它具有多個可旋轉目標的專利多目標濺射源技術，允許在一個處理周期內沈積多個金屬層。這臺機器有三個獨立的工藝模塊，每個模塊都針對兩個沈積過程進行了優化：單陰極和雙陰極磁控管以及三極管濺射。該工具還具有兩個用於雙陰極反應濺射的弧源。SC9900還有一個定制設計的12目標濺射槍。該槍符合人體工程學，可提供直接向下進給，以優化腔室通路和最小的陰極噪聲。其多目標濺射源在大型基板上提供一致的塗層性能和均勻的塗層。該槍具有0°至30°的可調濺射角和兩個可調節配置的獨立淋浴頭噴嘴，以改進對濺射材料方向的控制。濺射裝置內部的真空室由犧牲材料構成，以保證低原木磨損和優越的顆粒汙染控制。它配備了高性能泵送系統、加熱至875°C的石英基板卡盤、真空鎖室、5位氣箱和氣體混合歧管。所有這些設備的設計都是為了提高沈積率並確保可重復的工藝結果。SEMICORE SC9900具有先進的用戶友好界面,該界面具有卓越的圖形和可編程配方,可最大程度地控制過程參數。該型號的尺寸也很緊湊,具有卓越的能效和簡化的維護要求。所有這些功能使SC9900濺射設備成為串聯濺射系統的最佳選擇。它的高沈積速率和緊湊的設計使得它非常適合在一個單一的加工循環中將大量的金屬和氧化物層沈積在大型基板和裝置上。憑借其用戶友好的界面、集成的系統組件以及改進的工藝一致性，這一單元非常適合塗覆各種基板，具有統一、可靠、可重復的效果。