二手 ULVAC CERAUS ZI 1000 #9207442 待售

ULVAC CERAUS ZI 1000是一種先進的濺射設備，設計用於沈積用於半導體、MEMS和厚膜應用的薄膜。該系統是為精確的層控制和均勻性而設計的，可以達到厚度精度降低到一個納米。該單元由水平源、接地靶和用於氣體和真空控制的渦輪分子泵組成。水平源由兩門獨立的磁控管槍和一件式陶瓷氟聚合物基板組成，能夠遵循預先確定的沈積剖面。目標是安裝在絕緣陶瓷底座上的導電銅或鋁板。氣體壓力由渦輪分子泵維持在濺射室。濺射過程本身是物理氣相沈積（PVD）過程，涉及將氣體電離，在沈積室中生成等離子體。該等離子體用於使工作氣體中的離子高速撞擊目標，向底物釋放原子。通過控制濺射源的功率，可以控制沈積物料的數量及其原子結構。ULVAC CERAUS ZI-1000提供了許多功能,使其非常適合薄膜的沈積。它對每個濺射源都有獨立的快門機構，可以精確控制沈積。它還為每個源提供了一個可預編程的剖面，從而在整個基板上實現了均勻沈積。它還具有先進的定向感應機，使其能夠自動調整濺射源的位置，以確保目標接收到盡可能高的功率密度。另外，濺射工具有膜厚度監視器，可以精確控制層厚度。它還有一個電離監測資產，提供有關等離子體形成過程的實時反饋。最後，模型采用了先進的算法來保證均勻層在基板上的沈積。CERAUS ZI 1000是用於半導體、MEMS和厚膜應用的濺射薄膜的理想選擇。其先進的特性使其適合實現精確的層控制和均勻性，而直觀的工程界面則使其使用簡單。該系統具有精確的厚度測定和精密的方向感應設備，可確保薄膜沈積的精確、一致的結果。