二手 ULVAC MCH-4500 #58270 待售

ULVAC MCH-4500是一種多功能的濺射設備,可為各種材料提供高質量的薄膜沈積能力。該系統包括三個濺射目標,並可選擇獨立旋轉每個目標。這使用戶能夠有效地與兩種不同的材料進行共濺射。濺射功率可以為每個目標獨立調整，範圍從0到2000W，允許使用各種工作氣體。MCH-4500還支持偏置濺射和連續離子束轟擊，最大離子電流為600mA。ULVAC MCH-4500的有效目標面積為450mm x 350mm，允許沈積直徑達210mm的晶片。方便的樣品裝載盤使晶片的裝卸方便快捷。此外，使用特殊的屏蔽技術可以使腔壁保持涼爽，同時內部仍保持在高真空狀態。這種冷卻方法有助於防止不需要的薄膜或材料沈積在腔壁上，並有助於提高工藝的可重復性。該腔室由不銹鋼制成，采用堅固的擋板結構在腔室內部進行均勻的離子轟擊和/或等離子體生成。這種令人困惑的設計還有助於在沈積過程中保持腔室清潔，並有助於最大限度地減少濺射材料對薄膜的汙染。此外，該單元設計有一個浮動基板支架，確保晶圓水平，允許均勻的薄膜沈積。為了允許可編程、可重復和可復制的膠片沈積，MCH-4500配備了觸摸板操作的計算機控制機器。軟件提供各種操作模式，包括固定濺射電流、沈積厚度和蝕刻速率。這使得ULVAC MCH-4500快速熱退火、光學薄膜塗層和先進設備制造等應用的絕佳選擇。ULVAC-MCH-4500提供了一個多功能和強大的濺射工具，非常適合各種薄膜沈積過程。它能夠精確旋轉目標、調節濺射功率、保持潔凈腔室、輕松編程參數，使得ULVAC MCH-4500那些尋找強大且可重復的薄膜沈積能力的人的理想選擇。