二手 ULVAC SIV-200 #293622781 待售

ULVAC SIV-200是一種先進的濺射設備，設計用於將層的高質量薄膜沈積到基板和晶片等表面上。該系統具有多種沈積技術和工藝，包括交流磁控管濺射、直流磁控管濺射和偏置濺射。它也有多個目標，包括鋁、不銹鋼和金屬氧化物目標。所有目標都使用無失真磁場來實現精確的濺射和均勻的塗層特性。該機組的射頻發生器和先進的控制系統提供精確的精度，允許最大均勻性的高吞吐量。SIV-200濺射機能夠在超高真空條件下工作，既能保證優越的無粒子沈積，又能精確控制環境濺射參數。它具有納米直流控制、精確脈沖技術和可調射頻功率到毫秒級的特點。這種精確的控制允許工具應用均勻度為1mil/disc的材料。此外，該資產利用壓力控制器在沈積過程中保持穩定的壓力，確保膜性能一致。ULVAC SIV-200具有較大的腔室體積,可在單個托盤上容納多個基板,顯著縮短了加工時間。SIV-200具有安裝在旋轉臺上的高精度激光幹涉儀，用於無與倫比的非接觸式光學厚度測量。它還具有先進的關鍵基板視覺攝像機模型和晶圓檢測能力，提供精確的表面分析和均勻性測量。這種先進的視覺攝像機設備可用於存款過程的實時監測和質量控制。不僅ULVAC SIV-200提供優越的沈積和精確的控制,而且便於訪問.為方便維修，該室門包括一個方便進入加工室部件的升降門，使其成為研發實驗室的理想選擇。此外，氣候控制環境最大限度地減少了定期維護的需要，從而提高了系統的可靠性和可用性。總體而言，SIV-200濺射裝置是一種優越的工具，具有精確的控制和易於訪問的優越濺射。其先進的特性可以實現納米精確的直流控制、精確的脈沖技術和可調節的射頻功率，以及用於關鍵基板和晶圓分析的高精度激光幹涉儀和視覺攝影機。該工具為高通量、低維護的高精度、均勻塗層提供了最佳條件。