二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9254074 待售

UNAXIS/BALZERS LLS 502是一種先進的離子濺射設備，用於沈積用於半導體、光學和醫療應用的薄膜。該系統為制造商提供了獨特的優勢,例如高均勻性、高沈積率以及與一系列基材的兼容性。UNAXIS LLS 502濺射裝置包括一個射頻電源、一個離子源和一個裝有源目標、真空泵和一個觀察/樣品支架的腔室。RF電源用於為離子源供電，離子源由一個或多個磁控管濺射陰極與離子槍和激光耦合，用於離子束控制。該腔室有一個鎢鎢狀的源保持目標和多個抽水口。視圖/樣本持有者有兩個可索引的樣本支持,以及用於查看沈積過程的窗口。離子源被用來製造一等離子體的氙氣或其他反應性氣體，被送入沈積室。離子源通過濺射轟擊和離子萃取產生源材料的正離子。可調偏置電壓允許精確控制離子電流密度和離子撞擊基板的角度。TheView/Sample持有人在同時預熱並暴露於濺射過程中時經歷180°旋轉。一個冷卻的高效磁控管槍目標提供了一個大的濺射面積，允許更高的沈積速率同時保持均勻的薄膜沈積。BALZERS LLS 502設計用於容納各種尺寸和材料的基板。底物幾何會自動調整,並為每個單獨的底物建立索引。它還提供了可調的沈積速率，從而能夠精確控制沈積在基板上的材料。LLS 502濺射機為各種應用提供了多用途的薄膜沈積。其專門設計保證了薄膜沈積均勻，沈積速率高，與一系列底物的兼容性。這種先進的工具是半導體、光學和醫療行業制造商的可靠選擇。