二手 VARIAN 3180 #69386 待售

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VARIAN 3180
已售出
製造商
VARIAN
模型
3180
ID: 69386
晶圓大小: 4"
Sputtering systems, 4" Throughput: 60 wafer/hr for 1 micron aluminum alloy deposition, independent of water size Film thickness uniformity, 100mm: +/-5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water Film thickness uniformity, 125mm: +/-6.5% across wafer for aluminum alloys excluding out 0.0625" of water Vacuum system: Deposition chamber: Varian Cryostock-12FA closed-loops helium pump, 12" Load lock: 14cfm Deposition source: Type: close-coupled dc conical Magnetron Orientation: vertically mounted for sideways sputtering Deposition rate: ~12,000A/min Cathode: 7" dia., annular Cathode life: 2000 one-micron Deposition DC power supply: 12kW Operating Crated.
VARIAN 3180是一種高性能的濺射設備,可為各種應用提供最佳的塗層性能。該系統由一個直流磁控管濺射單元組成,該單元能夠實現高達180 nm/min的高沈積速率以及出色的覆蓋範圍。濺射塗層是一種涉及大功率直流(DC)磁體、沈積室和真空機的過程。磁控管濺射工具提供了對礦床厚度和表面質量等特性的終極控制。3180由PLCDAQ軟件控制,該軟件能夠控制資產內的所有流程。軟件還允許用戶選擇源材料、腔室幾何形狀、工藝周期以及濺射塗層工藝的所有其他參數。此外,軟件可以存儲模型中使用的所有配方,以便於更快的啟動時間和增加用戶的便利。VARIAN 3180由幾個對有效濺射塗層很重要的部件組成。例如,設備的腔室裝有長壽命襯裏,可提供更好的保護,防止汙染、磨損和物理損壞。此外,該腔室還具有良好的氣體密封性,能夠適應大氣和高真空過程。腔室提供了一個特殊的均勻性水平,允許一個沒有陰影效果的基板的均勻塗層。射頻驅動的離子束源提供均勻且比熱蒸發速率更高的基板加熱。高壓驅動的射頻供電離子源更能提高沈積速率。濺射源也可以調整,以確保改善對目標材料的離子轟擊,從而使濺射塗層的性能提高,質量更高。3180提供了廣泛的優勢,使其成為優越的濺射系統。它提供卓越的塗層性能,覆蓋範圍優越,操作可靠穩定,速度和均勻性優越。此外,該單元高度可定制,能夠容納各種腔室幾何形狀和原始材料。因此,VARIAN 3180非常適合一系列工業和科學應用,為卓越的塗層性能提供了必要的可靠性、速度和準確性。
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