二手 VEECO / DEKTAK Spector #9160719 待售
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已售出
ID: 9160719
優質的: 2000
Dual ion beam sputtering system
Dual ion sources:
16 cm Ion source as the major sputtering source
12 cm Ion source as assisting source
Target:
(3) Round targets, 14" dia
Water cooled backing plate
Target materials: 1 Ta & 2 SiO2
Rotation:
High speed fixture
Internal control
Water cooling
Heater: Yes
Pumping system:
CTI CRY-400 On-board
CTI 9600 Compressor
Mechanical pump (US Motor model G78597)
RGA: No
OMS:
VEECO OMS system, excluding tunable laser source
VEECO OMS computer and OMS hardware setup excluding tunable laser
VEECO OMS software loaded with the OMS computer
Controllers Included:
RF-2001 Controller
DC Bias 2051
Neutralizer 2070
Software: Spector version 6.0
Applications:
DWDM Filters
Laser line filters
Packing density filters
Optical thin film for high-power laser applications
Currently installed
2000 vintage.
VEECO/DEKTAK Spector是為高精度表面剖面設計的濺射設備。它使用X射線表面反射儀（XSR）和光學幹涉編碼器（OIE）的組合來測量基板的表面特性。VEECO Spector系統利用陰極濺射沈積過程在樣品上形成一層沈積物質。XSR技術可以精確確定曲面拓撲,而OIE可以測量曲面粗糙度。XSR技術涉及X射線輻射從X射線源投射到樣品表面。然後用X射線探測器接收反射輻射並進行分析以確定樣品的拓撲。OIE編碼器的運作方式類似，但不限於X射線輻射，可以使用任何光源。世界動物衛生組織利用一種幹涉技術，將光分成兩束，從樣品表面反射出來。反射光束的差異用於精確檢測表面輪廓。DEKTAK Spector濺射裝置包括遠程真空機、壓力監視器和控制刀具設置的計算機接口。遠程真空資產負責維持腔室內的真空，可以編程達到從1.0 mbar到1e-8 mbar的設定點。壓力監測儀測量室內的壓力，並在壓力達到設定極限時發出警報。計算機接口用於控制濺射源功率、沈積速率、基板旋轉等參數。Spector sputter model used for a range of materials deposition, surface modification and analysis applications including metal depositions, oxides, thin milms, sputtered oxides, and nano structures.它廣泛應用於內存和電子行業,可實現精確的層控制和均勻性。VEECO/DEKTAK Spector濺射設備也可用於監測原位增長率，以及分析沈積材料的結構特性。總之,VEECO Spector濺射系統是一種先進的表面剖面和材料沈積裝置.它利用XSR技術進行表面拓撲確定，利用OIE進行表面粗糙度測量，並用於一系列材料沈積、表面修改和分析應用。該機廣泛應用於內存和電子行業，實現了精確的層控制和均勻性。
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