二手 NIKON NSR SF120 #9207084 待售
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ID: 9207084
Stepper, 12"
Front In-line FOUP / ACT12
(6) Reticles, 0.25"
Variable reticle microscope
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
i-Line light-source, 365 nm
Resolution: 0.28um
NA Variable lens: 0.50 - 0.62
Exposure: 25 mm x 33 mm
3-Axis (5) PIEZO Lens adjust
PC System hardware:
Type: DS10
UPS System
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Mercury ARC lamp: 5.0 kW
Multi focus system
Table leveling system (VCM)
Wafer loader:
Type III
Wafer type: Notch
Front In-line FOUP + ACT12
Single wafer cassette
Wafer pre-align type: NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexes
Barcode reader
PPD3 Particle checker
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Chamber:
S52 Sendai chamber
CVCF NEMA (1,2)
BATC / CATC / LLTC: 23.0°
PM Data:
Wafer Flatness:
Maximum: 1.270 um
L.F Maximum: 0.790 um
Lamp:
Power: 1497.932 mw/cm²
Uniformity: 2.359%
Lens distortion:
Maximum X: -0.012 - 0.013um
Maximum Y: -0.017 ~ 0.016um
Lens inclination:
Maximum: 0.060 um
Curvature: 0.023 um
AST(V-H): 0.051 um
UR-LL: 0.012 um
UL-LR: 0.021
Illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): ConV 0.52/0.36
ID2(L-NA/I-NA): ANN 0.62/0.5
ID3(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.43
ID4(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.36
Power supply: 208 V, 3-Phase, 60 Hz
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是一種具有NIKON專有「共振掃描步進器」（RSS）技術的高精度晶圓和掩模對準設備。它能夠在一系列要求苛刻的步進應用程序中實現高吞吐量和高精度。適用於掩模和晶片加工。該系統采用高速6軸級來獲得1-nm定位分辨率。舞臺的最大加速度為30 m/s2,從而縮短了周期時間,並減少了修飾框架。晶片分步器能夠曝光和對準廣泛的光掩模。它具有9波長（包括i-line、g-line和u-line）的非接觸對準光源，為晶圓和光掩模提供高精度對準。該單元還具有可編程對齊算法，以進一步提高精度。此外，通過引入專有的二維配準標記來保證高精度的對齊和配準可重復性（1.5西格瑪）。NIKON NSR-SF120采用直觀的用戶界面和優化的配方生成工具來減少設置時間。NIKON專有的光軸校正函數用於保持光軸的垂直度（軸上垂直度），用於廣泛的應用。晶圓步進器配備了多種速度和精度選項。它使用一種專利的自動傳感器機器來檢測殘留材料。默認的自動傳感器可以檢測尺寸從0.1微米到10mm的任何對象。機器還提供註冊搜索模式，快速準確地註冊晶圓和掩模。NSR SF 120還設計了一套全面的安全功能。它采用了一種原位保護工具，以保護用戶免受有害物質的侵害。它還具有絕對位置監視器,可以在檢測到資產狀態的任何更改時快速檢測問題。NSR-SF120是一種完全高精度的晶圓步進器,可滿足生產級應用程序的高需求。它的能力和先進的技術使它能夠提供出色的對齊精度和吞吐量。它為需要高精度對準和配準晶片和光掩碼的應用提供了經濟高效的解決方案。
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