二手 NIKON NSR SF200 #9220471 待售
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單擊可縮放
ID: 9220471
晶圓大小: 6"
KrF Stepper, 6"
Resolution: 150 nm
Handedness: Inline left or right
Altitude: Varies by site
Chamber type: Standard
Variable numerical aperture: Maximum 0.63
sPURE
RET Apertures iNA: 0.50, 0.38, 0.24, 0.19, 0.12, 0.38
Quick reticle change (QRC)
Reticle size: 6"
Field image alignment system (FIA)
Laser step alignment system (LSA)
Phase contrast FIA
TTLFC2
Pre-alignment 2
Wafer stage: Air bearing / Linear motors
Ceramic wafer holder
Wafer loader
Chip leveling included
Multipoint focus/level
NIKON SECS II GEM Interface
GIGAPHOTON KrF Excimer laser source
Options:
Resolution enhancement technology (RET)
Reticle barcode reader
Extended wafer carrier table
Pellicle particle detector
2003-2004 vintage.
NIKON NSR SF200是一種高端晶圓步進設備，設計用於生產半導體、MEMS和MOEMS。它具有多種光學功能和廣闊的視野,非常適合復雜的光刻工藝。NIKON NSR SF 200配備了掃描儀式還原投影鏡頭和超高分辨率對準傳感器。采用NIKON專有光學設計的掃描儀式還原投影鏡頭，提供0.55至0.75的數值孔徑，提供高分辨率2580 dpi μ 5米電磁場發生器（FEG）。即使使用高度復雜的結構,這也能在晶片上實現出色的圖像均勻性和分辨率。該系統還配備了NIKON Double Movable Proximity Stage （DMPS）和缺陷檢測算法，使晶圓和光刻面罩的對準更加精確。DMPS技術消除了晶圓級和掩模級之間的縫合問題,提供了高精度的光刻工藝。此外,缺陷檢測算法允許在光刻生產過程中掃描晶片,監控不規則和故障,以幫助進行缺陷校對。NSR SF200具有NIKON專有的過程控制單元,提供用戶友好的操作、高級過程信息跟蹤和實時調試。工藝控制機優化圖案、曝光參數、車削時序和焦點，確保最佳光刻效果。此外,NSR SF 200還配備了空氣冷卻工具,可穩定運行並改善熱均勻性。它還提供Smart Recipe Master軟件，允許用戶創建和存儲自己的食譜，以及與其他用戶共享食譜。總之,NIKON NSR SF200是一種強大、用途廣泛、用戶友好的晶圓步進器資產,旨在滿足現代半導體制造能力的需求,具有大量的光學和工藝控制功能。
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