二手 DAINIPPON MP-2000 #190876 待售

DAINIPPON MP-2000是在創建半導體器件時光刻工藝中使用的光刻設備。該系統便於在光刻過程中選擇性過濾光，使所需的遮罩設計區域暴露於光中並轉移到晶片上。此過程用於在晶圓上創建陣列化表面,後來用於蝕刻和其他處理。MP-2000單元使用高反射率鋁鏡和負極或正極光抗蝕劑的組合來反射整個區域波長一致的晶圓外的光。這使得晶片的選定區域能夠在表面的其余部分不受保護的情況下經歷反射。遮罩設計印在光敏材料上，然後暴露在光入射場下。設計的區域暴露在光線下並得到固化，而面罩外的區域則被保護免受光線照射。此過程在整個晶片上重復,並具有所有必要的掩蔽設計。DAINIPPON MP-2000機中的鋁制鏡面反射性強，耐用。它是一種高度電阻的材料，能夠在過程中提供快速照明。這也減少了使用的能量量，從而減少了運行工具所需的電量。反射鏡還有助於在光刻膠資產內提供一個持續調節的環境。MP-2000模型還使用負極或正極光抗蝕劑,以允許所需的區域暴露在光下,同時保護晶圓的其余部分。光致抗蝕劑是一種液體材料，可以與形成很像蝕刻圖案的掩模的合適介質（如紡絲膜或聚合物）結合使用。當暴露在光線下，光刻膠內的分子會分解，讓面膜的設計得以轉移。光致抗蝕劑系統是光刻的重要組成部分，DAINIPPON MP-2000為晶片的選擇性光過濾提供了高度耐用和可靠的設備。其反射鋁鏡在提供快速照明方面效率很高，負極或正極光抗蝕劑允許所需的區域免受光入射場的侵襲，創造出完美的光刻環境。