二手光罩對準曝光系統待售
掩模對準器是半導體工業中用於生產集成電路（IC）的一種光刻設備。它被設計成精確對齊和暴露包含所需圖樣的掩模到基板上，通常是矽片。遮罩對齊器在光刻過程中起著至關重要的作用，這涉及使用光將遮罩圖樣傳遞到晶圓上。遮罩對準器通常由幾個關鍵組件組成,包括光源、遮罩支架、用於定位晶片的舞臺和對準光學器件。光源提供必要的照明，通常是紫外線的形式，以使光刻劑暴露在晶圓上。面罩支架在曝光時牢固地將面罩固定到位，確保與基板精確對準。該級可以精確定位晶片,而對準光學器件則可以將掩模陣列對準晶片上的目標位置。掩模對準器的主要優點是能夠實現高精度和高分辨率，使晶片上產生復雜的圖樣。此精度對於IC制造至關重要,因為它直接影響最終產品的性能和功能。此外,掩模對齊器通常能夠處理大量晶片,使其適合大批量制造。總之，在半導體工業中，掩模對準器是必不可少的工具，它允許將掩模圖樣精確對準和暴露在晶片上。它們的高精度和分辨率使其在生產集成電路方面具有寶貴價值，有助於技術的持續進步。
製造商:
顯示第
1-30
of
258
發現的結果
過濾器
全部清除
過濾器
258 結果
製造商
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(132)
-
(3)
-
(1)
-
(11)
-
(5)
-
(1)
-
(6)
-
(32)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(7)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(2)
-
(214)
-
(1)
-
(5)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(13)
-
(8)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(26)
-
(4)
-
(7)
-
(1)
-
(23)
-
(17)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(56)
-
(1)
-
(5)
-
(1)
-
(8)
-
(1)
-
(1)
晶圓大小
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(6)
-
(14)
-
(4)
-
(1)
-
(47)
-
(3)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(41)
-
(4)
-
(1)
-
(68)
-
(12)
-
(26)
優質的
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(7)
-
(11)
-
(5)
-
(6)
-
(3)
-
(13)
-
(5)
-
(3)
-
(6)
-
(4)
-
(8)
-
(7)
-
(5)
-
(3)
-
(2)
-
(2)
-
(6)
-
(11)
-
(1)
-
(4)
-
(2)
-
(2)
-
(2)
-
(3)
-
(3)
-
(1)
-
(3)
-
(3)
-
(3)
-
(5)
-
(2)
-
(1)
-
(357)
找不到你要找的？