二手光罩對準曝光系統待售

掩模對準器是半導體工業中用於生產集成電路(IC)的一種光刻設備。它被設計成精確對齊和暴露包含所需圖樣的掩模到基板上,通常是矽片。遮罩對齊器在光刻過程中起著至關重要的作用,這涉及使用光將遮罩圖樣傳遞到晶圓上。遮罩對準器通常由幾個關鍵組件組成,包括光源、遮罩支架、用於定位晶片的舞臺和對準光學器件。光源提供必要的照明,通常是紫外線的形式,以使光刻劑暴露在晶圓上。面罩支架在曝光時牢固地將面罩固定到位,確保與基板精確對準。該級可以精確定位晶片,而對準光學器件則可以將掩模陣列對準晶片上的目標位置。掩模對準器的主要優點是能夠實現高精度和高分辨率,使晶片上產生復雜的圖樣。此精度對於IC制造至關重要,因為它直接影響最終產品的性能和功能。此外,掩模對齊器通常能夠處理大量晶片,使其適合大批量制造。總之,在半導體工業中,掩模對準器是必不可少的工具,它允許將掩模圖樣精確對準和暴露在晶片上。它們的高精度和分辨率使其在生產集成電路方面具有寶貴價值,有助於技術的持續進步。

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