二手曝光機待售
曝光系統設備是指用於半導體制造和光刻工藝領域的一系列設備和機械。這些系統被設計用來將光刻塗層的晶片暴露於特定的光圖樣中，從而能夠將電路設計精確地傳遞到晶片的表面。曝光系統設備由幾個關鍵部件組成。第一種是光源，通常是激光或汞弧光燈，它發出所需的波長的光。這種光然後通過一系列的反射鏡、透鏡和濾鏡來控制它的強度、偏振和光譜特性。之後，光線被聚焦到一個標線上，該標線包含要傳遞到晶片上的所需圖樣。使用復雜的對齊系統精確定位標線,以確保精確的模式復制。此外，曝光系統設備還包括先進級系統，可在曝光過程中精確移動和定位晶片。為控制接觸參數，這些系統采用軟件和計算機控制系統，對接觸時間和劑量等各種參數進行實時監測和調整。這確保了一致和可靠的接觸結果。曝光系統設備在半導體制造中起著至關重要的作用，提供了創建高質量集成電路所必需的精確和可重復的光照。這種設備的創新使設備小型化、產量提高和生產吞吐量提高。總體而言，曝光系統設備是半導體制造過程的重要組成部分，能夠以最高的精度和精確度在晶片上創建復雜的電路模式。
製造商:
顯示第
1-30
of
309
發現的結果
過濾器
全部清除
過濾器
309 結果
製造商
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(3)
-
(1)
-
(3)
-
(5)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(103)
-
(10)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(4)
-
(4)
-
(65)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(2)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(4)
-
(1)
-
(10)
-
(1)
-
(2)
-
(3)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(9)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(8)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(6)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(6)
-
(4)
-
(1)
-
(79)
-
(3)
-
(1)
-
(13)
-
(5)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(4)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(9)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(3)
-
(5)
-
(1)
-
(53)
-
(1)
-
(6)
-
(2)
-
(1)
-
(7)
-
(2)
-
(3)
-
(2)
晶圓大小
-
(1)
-
(14)
-
(1)
-
(2)
-
(1)
-
(5)
-
(1)
-
(27)
-
(2)
-
(1)
-
(1)
-
(37)
優質的
-
(3)
-
(2)
-
(6)
-
(5)
-
(1)
-
(5)
-
(4)
-
(3)
-
(4)
-
(11)
-
(10)
-
(6)
-
(6)
-
(4)
-
(7)
-
(9)
-
(4)
-
(2)
-
(8)
-
(6)
-
(6)
-
(5)
-
(2)
-
(3)
-
(2)
-
(5)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(1)
-
(172)
找不到你要找的？