二手 BENEQ TFS 200 #293683751 待售
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ID: 293683751
晶圓大小: 8"
Atomic Layer Deposition (ALD) system, 8"
(2) Heated source bottles
(4) Ambient temperature source bottles
Gases: O3, H2O, H2O2
Ozone generator
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER Dry pump
Pumping speed: 100 m³/hr
No load lock.
BENEQ TFS 200是一種最先進的擴散爐,設計用於半導體、光學和光伏行業的精確、均勻的薄膜塗層和熱處理應用。這款高性能設備具有先進的功能和創新的技術,可提供卓越的效果並滿足現代制造工藝的嚴格要求。TFS 200配備了堅固可靠的加熱系統,確保整個工藝室的溫度分布均勻,為薄膜的沈積和擴散創造了理想的環境。該爐可達到高達1200攝氏度的工作溫度,為各種材料加工應用提供充足的熱能。BENEQ TFS 200的關鍵亮點之一是它的精確控制單元,它可以讓用戶以高精度和重現性調整溫度、壓力、氣體流量等各種參數。這種控制水平使研究人員和工程師能夠微調沈積過程,實現厚度和組成精確的高度均勻的薄膜塗層。擴散爐設有多個氣體進氣口,允許引入多種前體氣體和摻雜劑來量身定制沈積薄膜的性能。該機還采用先進的氣體混合和輸送工具,確保精確和一致的氣體流量,促進優秀的薄膜質量和再現性。為了便於操作和監測沈積過程,TFS 200配備了一個方便用戶的界面,提供關鍵流程參數和資產狀況的實時反饋。此外,該模型還可以輕松地與外部監控系統集成,以實現無縫自動化和數據記錄。BENEQ TFS 200的設計考慮到安全性和可靠性,具有堅固的結構和先進的安全聯鎖功能,可防止設備故障並確保操作員保護。設備還包括高級診斷和監控工具,以實現主動維護和故障排除,最大限度地減少停機時間,並最大限度地提高生產效率。除了基礎擴散爐外,BENEQ還提供一系列附件和可選功能,以增強TFS 200系統的能力和靈活性。其中包括額外的氣體處理模塊、基板支架和定制沈積室,以適應特定的工藝要求和實驗設置。總體而言,BENEQ TFS 200擴散爐是薄膜沈積和熱處理應用的通用可靠工具,提供高性能、精確控制和先進功能,以滿足現代工業和研究的苛刻需求。TFS 200具有卓越的性能和靈活性,是從事半導體、光學和光伏領域工作的研究人員和工程師的重要工具。
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