二手 CENTROTHERM c.PLASMA AlOx #9409520 待售

CENTROTHERM c.PLASMA AlOx是一種擴散爐及其配件，為滿足復合半導體生產工藝日益增長的需求而研制。它是一種高性能的工具，用於沈積氧化鋁（AlOxN）層和其他具有極好的均勻性和重復性的復合半導體材料。它的等離子體源技術確保了整個樣品上均勻的離子通量。CENTROTHERM c.PLASMA AlOx提供全自動的過程控制，包括蒸氣壓力和通量的自動調整，允許精確、可重復的結果。集成射頻源能夠產生具有低電阻、均勻輪廓的等離子體。超低壓氮環境確保所有沈積層保持清潔。CENTROTHERM c. PLASMA AlOx提供精確的溫度控制，溫度範圍為100°C至1,000 °C，可用於多種過程，包括動能氣相沈積（KVD）、快速熱過程（RTP）和快速熱退火（RTA）。它還擁有先進的真空設備，配有吸氣器、渦輪增壓泵和旋轉泵以及壓力表，設計用於快速可靠地撤離腔室。整個CENTROTHERM c.PLASMA AlOx系統由一個反應室、等離子源、RF發生器、獨立的PT 100熱電偶、真空單元和可選的氣體進料組成。該反應室是專門為種植復合半導體材料而建造的，由AISI不銹鋼制成，具有耐腐蝕性。通風和冷卻通過高壓風扇、吸熱和放熱加熱器以及熱交換循環提供。基機還包括一個集成的電阻加熱元件，使樣品能夠得到一致和均勻的加熱。不同的晶片持有者可以與反應性室結合使用，以支撐各種樣品幾何形狀。CENTROTHERM.PLASMA AlOx可以通過用戶友好的圖形用戶界面遠程控制,通過該界面可以執行所有必要的過程步驟。它還可以集成到大多數半導體生產線中，並連接到監控系統。總體而言，CENTROTHERM c.PLASMA AlOx是在復合半導體生產中實現嚴密工藝控制的強大而可靠的工具。憑借其集成的射頻源、精確的溫度控制以及其他先進的特點，為生產高質量和可重現的金屬氧氮化物層提供了理想的解決方案。