二手 CENTROTHERM E2000 HT 300-4 #293814965 待售
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ID: 293814965
晶圓大小: 12"
優質的: 2018
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) furnace, 12"
(2) Process chambers
Gas cabinet
Furnace
Loading board
Dry pump
Scrubber
Integrated Gas System (IGS) panel
2018 vintage.
CENTROTHERM E2000 HT 300-4擴散爐是一種高效的、用於擴散過程的在線浸泡爐頂部。它在水平石英管或類似石英容器中提供高達1200 °C的最高溫度,為擴散過程提供充足的熱能。可定制的密封技術也很容易實現,允許快速有效的連接。CENTROTHERM E2000HT 300-4爐具有四個獨立控制的紅外鹵素加熱區,以確保半導體晶片、矽晶體、金屬合金、熔融石英等材料的溫度和質量結果均勻。可調溫度區的設計最大限度地提高了均勻性和效率。此外,該爐提供了可調的速度,以盡量減少熱應力和加強過程穩定性.E2000-HT 300-4擴散爐具有單一氣體擴散監測、完全可調的工藝參數、有限級保護、不受熱點和不受控制的除氣等特點。該爐由優質部件制成,包括耐腐蝕不銹鋼,具有優異的耐久性和壽命。它還旨在最大限度地減少熱量浪費和能源消耗,同時幫助保持最佳生產率。為增加便利,該爐還配有廣泛選擇的預裝工藝程序、熱轉換配件和高級參數設置選項。這些工具為用戶提供了高度的靈活性和對其擴散過程的控制。除了優秀的標準特性外,E2000 HT 300-4擴散爐還附帶了廣泛的附加配件,如擴散器、溫度傳感器、電表等。這些配件進一步提升了爐的整體能力,確保了優異的性能效果。總體而言,E2000HT 300-4擴散爐是一種可靠、強大的浸泡爐,提供卓越的工藝保護和最大的效率。它方便、可調的控件為用戶提供了所有擴散過程的無與倫比的靈活性,以及各種附加配件,使擴散過程更加容易。爐子的無與倫比的價值、性能和耐久性是任何工業或學術實驗室的理想選擇。
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