二手 CENTROTHERM Parallel plate for Silicon nitride deposition system #293669093 待售

CENTROTHERM氮化矽沈積設備的平行板是一種擴散爐和輔助系統，旨在解決各種半導體應用。該擴散爐利用由兩個平行板設計的升華器提供均勻的氮化矽熱處理和均勻的塗層。該單元設計為具有單個錐形設計的底部腔室，適合機器的主體。頂室由耐高溫材料構成，提供容納兩個平行板的真空板。還提供了一種外部控制的惰性氣體進料，有助於控制升華過程，允許精確控制矽酸氮化物分子的濃度，防止底物過度摻雜。該工具還具有獲得專利的熱區設計,可改善整個加熱區域的溫度均勻性。對稱的熱源創造出一個一致的溫度範圍，也很容易調節和控制。此外，該資產還提供了整個加熱區域內極好的溫度均勻性。該模型適用於氮化矽產品的開發和制造。在產品開發方面，該設備采用了一系列常規和先進的熱晶圓加工方法。這包括像原子層沈積（ALD）和化學氣相沈積（CVD）這樣的沈積過程，以及退火、蝕刻和金屬接觸形成。氮化矽沈積系統的平行板與各種材料和基板高度兼容。根據具體應用，可以使用DLC、LPCVD、PECVD矽烷等不同的塗層材料。此外，該單元還與金屬、玻璃、陶瓷、塑料兼容。該機器還設計了頂室內部獨特的禁區，這有助於減少SiNx分子撞擊墻壁並制造堵塞的機會。提供了一個易於使用的觸摸屏控制器，有助於操作和監控所有工具元素。控制器還提供與外部系統的通信以及對流程參數的實時在線監控。總之，氮化矽沈積資產的CENTROTHERM平行板是一種通用、高效的半導體應用模型。由於其先進的特性和與一系列材料和底物的兼容性，該設備提供了高效和均勻的氮化矽分子擴散處理。