二手 ESPEC PHC-111M #9352229 待售

ESPECT PHC-111M是為處理大型半導體晶片而設計的擴散爐。配備高溫性能（HTP）膜，是大型集成（LSI）基板加工和高溫退火應用的理想工具。溫度範圍為100至1100 °C, PHC-111M能夠在各種半導體材料中精確控制和保持溫度在0.1°C的範圍內。它的加熱元件，一個5000瓦的高效燈絲，能夠提供高低溫精確的圖樣。為了保持恒定的溫度分布，ESPIC PHC-111M配備了排氣風扇，有助於在整個加熱室內均勻循環熱量。以45升的容量，PHC-111M可以使用量產技術處理多達8英寸的半導體晶片或基板。此外，它的陶瓷內室確保在加工過程中氧化和汙染最小。該單元還設計用於容納各種設備，包括石英和石墨船、氣體片和薄膜監控設備。為了進一步提高精度和可重復性，ESPIC PHC-111M配備了嵌入式微機控制器，能夠監控加熱室溫度、加熱器輸出和設置參數。控制器以演示均勻性、精確度和可靠性為重點，包括PID控制、溫度測量、條形圖、自我診斷、時間報警功能等功能。在安全性方面，PHC-111M還設有地震探測器、開路和短路保護裝置，以及防止爐子在運行時被打開的互鎖系統。該單元還使用分時系統，其中可以同時編程和執行多個程序，從而在批量生產應用中實現一致性和可靠性。最後，ESPEC PHC-111M配備了一系列配件，包括石英觀測窗口、高響應熱度計、熱電偶、電源線、PC連接器和熱電偶數據記錄器。它還提供了一個外部石墨加熱器模塊，以提高工藝精度和靈活性。