二手 HITACHI / KOKUSAI DD-1206VN-DM #9281054 待售
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ID: 9281054
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Diffusion furnace, 12"
Quixace I / QWM
Furnace:
Quixace-mini (Silica bake) furnace
D4EX25085 Heater
RHC Heat (Quick-cooling)
RC-100 Exhaust pressure controller
Furnace mount
Scavenger
Process exhaust duct
Automation:
I/O Shutter
FOUP Transfer unit and loader
Rotation FOUP rack unit: 12-Step carrier stage
FOUP Opener unit
Wafer detect unit
Notch detect unit
Wafer transfer unit
Boat elevator unit: Up/down
Boat rotation unit
Furnace shutter unit
Gas (N2, O2):
Gas pressurized unit: Silica bake
Gas detector
Gas box
Controller:
CX3010 Controller
CQ1700 Temperature controller
Power control unit
2004 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-1206VN-DM是一個擴散爐及附件封裝，為各種半導體基板的快速熱處理提供自動化、高性能的解決方案。該爐由連接電源控制單元的石英管和石墨電阻加熱器、引入氣體的流量設備、溫度設定點和監測的溫度控制單元以及運行整個系統的真空泵組成。膨脹箱具有多個溫度區，使其能夠與獨立的加熱區同時處理幾個基板。擴散爐設計用於CVD和PECVD的各種半導體工藝和晶圓尺寸，從150毫米到300毫米不等。它具有高達1,250 °C的高溫範圍,以及變化± 0.1°C、均勻度± 0.25 °C的嚴密溫度控制,允許優化熱過程。該機組還擁有高效的氣流，提供均勻的熱處理和提高的吞吐量。其脫氧套件也可用於降低氧化物蝕刻和沈積的氧氣水平。除熔爐外，HITACHI DD-1206VN-DM還包括諸如熱板、感應載體、高溫氣體進氣管以及便於進入需要加工的基板的裝載井等附件。其堅固的結構確保了可靠的性能，而其先進的基於微處理器的控制器提供了比市場上其他擴散爐更好的加熱控制。KOKUSAI DD-1206VN-DM是氧化、退火、擴散和薄膜沈積等過程的理想選擇，可用於各種行業，包括消費電子、太陽能電池、生物傳感器和醫療儀器。DD-1206VN-DM具有高精度的溫度控制、高效的氣流機和廣泛的配件選擇，可以滿足現代熱處理的苛刻要求。
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