二手 HITACHI / KOKUSAI DD-802V-H #9250086 待售

HITACHI/KOKUSAI DD-802V-H擴散爐是由獨立爐、真空泵及相關配件組成的高溫熱處理設備。該爐在溫度最高為1200C的穩態氣氛下運行，並配有一個反應物輸送系統，用於向反應堆室供應受控數量的氣態和/或液態物質。反應堆室容積為2.05立方英尺（58升），加熱區為1.24立方英尺（35升）。該裝置還包括一個位於反應堆室內的石英隔膜管，用於轉移樣品。該擴散爐設計用於電子元件的熱處理,具有最高的可重復性.它具有兩個獨立的溫度控制區域，每個區域可獨立編程，直至1200C用於晶片、片斷和組件的熱處理。溫度通過溫度控制器和數字顯示所需的冷卻速率、加熱速率和梯度來調節。溫度梯度可以通過一個內置的高溫計來監測，它可以作為一個精確的閉環溫度控制機器來控制整個腔室的溫度均勻性。控制範圍可從環境+20C調整到1200C。爐子還配有自動冷卻模塊，在10分鐘內快速冷卻到設定的溫度範圍。HITACHI DD-802V-H擴散爐還設計用於采用高溫操作的高通量處理，快速斜坡速度高達每分鐘150 C。爐子上覆蓋著一個鋼外殼，設計方便維護和高效操作使用。反應堆壁設計為最佳的傳熱傳質效率和最大使用壽命。加熱元件是作為熔爐元件提供的，以達到最高溫度均勻性，而冷卻速率、溫度梯度和平衡常數是可調的，以適應各種材料。爐子還配有一個額外的爐口，以釋放凈化氣體，從而使操作更加高效。最後，將廣泛的安全特性集成到氣閥中，以確保在任何時候都能安全運行。所有這些特性和功能使KOKUSAI DD-802V-H擴散爐成為可靠、經濟高效的熱處理工具。它能夠以最小的熱工藝變化生產高質量的電子設備，滿足現代工業具有挑戰性的生產需求。它是業界成本和節能的絕佳選擇。