二手 HITACHI / KOKUSAI DD-803V #293633554 待售
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單擊可縮放
ID: 293633554
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Vertical furnace, 8"
Atmospheric controller
Clean unit controller
CX2000 Controller
Utility cabinet
CQ1501 Temperature controller
(4) Zones
D4EX02728 Heater
Process temperature: 700°C-1000°C
Flatzone length: 952.50 mm
Process tube material: Quartz
Wafer boat material: Quartz
Tube seal configuration: N2 Flow
R-Type thermocouple
Exhaust controller
SECM / GEM Communication: Serial
Temperature control:
P: 0.1~200%
I: 0.01-100.00 min
D: 0.00-10.00 min
Load station:
WIP Carrier capacity: 16
Wafer spacing: 5.20 ±0.05 mm
Load size: 150-Slots
Boat rotation
Process gas control system:
External torch
H2 Burn off
Bubbler
Process gas (Atmosperic):
MFC Model: SEC-Z500, SEC-4500, SEC-4400 / Analog
Process gas: N2, H2, Ar, O2, NO
SCHUMACHER ATCS 15 Bubbler system
Other gases: UN2 (Air/N2)
Input power supply:
Heater: 208VAC, 50KVA, Single phase
Controller: 100VAC, 4KVA, Single phase
Clean Unit: 100VAC, 1.5KVA, Single phase
Start-up PSU: 24VDC
Handler missing
1998 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-803V擴散爐及其附件為退火、燒結和擴散應用提供了一個全面的解決方案。這種擴散爐設備由全自動的精確加熱和冷卻平臺（HCP）和可靠的動作性能構成，適用於各種材料和工藝。HITACHI DD-803V是一款用途廣泛、應用廣泛的機器。它有四個室，包括一個爐室、一個冷卻室和兩個輔助設備。該爐室具有多種特點，如數字溫度控制器、強制空氣循環和整體冷卻室。冷卻室為各種材料和工藝提供了一種有效的冷卻方法。無論使用或不使用惰性氣體，例如氙氣，它都能有效地工作。KOKUSAI DD-803V圍繞堅固的金屬框架構建,即使在惡劣的工作環境中也能持久耐用。它配備了強大的陶瓷絕緣，提高了性能，最大限度地降低了維護和能源成本。該爐由用戶友好的基於觸摸的界面控制，便於安裝和操作。此外，由於其內置的安全機制，熔爐仍然安全，可以在廣泛的環境中使用。DD-803V擴散爐和配件的設計滿足許多材料和工藝的需要和要求，包括半導體和太陽能電池的生產、研發、薄膜應用和醫療設備制造。多區處理系統（MPS）提供對過程溫度和環境條件的高級控制,確保精確和一致的結果。爐膛的均勻性由高性能加熱控制單元維持，具有可調區域控制和可選的自動再生機器。除熔爐外，HITACHI/KOKUSAI DD-803V擴散爐及配件還包括一些有用的配件。示例包括配電單元、負載單元平臺、固定系統、惰性氣體外殼以及用於高級控制和監控的可編程邏輯控制器。HITACHI DD-803V具有精確的溫度控制、卓越的均勻性和可靠性以及全面的安全特性,非常適合精確的工藝和敏感組件。
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