二手 HITACHI / KOKUSAI DD-833V #9238012 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9238012
晶圓大小: 6"
Diffusion furnace, 6"
Process: PYRO (HCL)
Process gas: N2, H2, O2, HCL
Loading system:
Front operation panel: R-Axis
Pass box (Load lock): Cassette loader
CX 3002 Main controller
CX 1220 Mecha controller
Wafer counter, 6" (every 25)
I/O Stage check: Air off
CX 3002 Cassette loader
Wafer transfer: Air Off ((5) vacuum tweezer, 6")
Furnace system:
CQ 1500 (DN-150) Temperature controller
D4EX 05414 Heater
SIC Profile
(4) Controllers
(4) Monitors
Gas system:
CX 1311 MFC Controller
MFC (STEC):
MFC1: 30SLM
MFC2: H2 20SLM
MFC3: O2 20SLM
Model / Gas:
MFC4: O2 2SLM
MFC5: HCl 1SLM
MFM: N2 10SLM
(2) Filters
Pressure control system:
AERA RC-100F Pressure controller
Valve open / Close check: APC Valve area RV-100
Burning system:
CX 1310 Burn controller
Power:
Heater: 3Φ, AC 200 V, 42 kVA
Control: 1Φ, AC 100 V, 30 A
Clean unit: 1Φ, AC 100 V, 40 A.
HITACHI/KOKUSAI DD-833V是一種先進的擴散爐及附件封裝,旨在為各種材料提供精確的溫度控制和均勻性。該爐采用鉬六壁加熱室、高功率石英管式加熱元件、兩級隔膜泵和高精度溫度控制器。利用這些功能,HITACHI DD-833V能夠在各種擴散過程中密切控制高達1,400 °C的溫度。該爐可用於需要快速熱擴散的應用，如金屬和玻璃的薄膜沈積、CVD工藝和熱處理。KOKUSAI DD 833V的鉬熱室設計為以最小的熱損耗快速加熱材料。石英管式加熱元件對溫度變化提供精確一致熱擴散的精確響應。位於爐旁的兩級隔膜泵有助於降低表面汙染風險。高精度溫度控制器提供精確的溫度控制和均勻性，使擴散爐能夠快速準確地運行。該套件還包括旨在增強DD 833V操作的附加配件。包括一個高度可調的支架，以協助在爐子中定位樣品。蓋子提升機構允許在熱處理過程中方便地接觸樣品。包括一個單獨的電源模塊，為擴散爐提供額外的電源，如幹氣。此外，DD-833V還包括各種爐子控制面板、電氣部件和其他附件，以實現對擴散過程的精確控制。控制面板易於使用,可提供直觀的命令和一系列指示器來監控溫度和擴散進度。所有必要的電氣元件都包括在內,以便安全可靠地連接到電源。KOKUSAI DD-833V是一種先進可靠的擴散爐及附件包裝，為各種材料提供精確的溫度控制和均勻性。HITACHI DD 833V通過其卓越的加熱系統,包括附件和易於使用的控制面板,使熱擴散成為一個簡單而復雜的過程。
還沒有評論