二手 HITACHI / KOKUSAI DD-853V-8BL2 #9182447 待售
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ID: 9182447
優質的: 2000
Vertical diffusion furnace
Flat zone aligner with sensor
Wafer counter: M-826
Main controller: Dual hard disk CX-3002B
Exhaust controller: PCU- 3000
PLC Unit: OMRON (CX-1314)
(2) Hard gas pattern GFC panels
(2) Software pattern GFC panels
Heater torch:
UV Sensor
(2) Torch type
Gas unit:
P-N2-1 0.30MPa / 30L/min 1 ¼” UJR
P-N2-2 0.30MPa / 100L/min 1 ¼” UJR
O2 0.20MPa / 21L/min 1 ¼” UJR
H2 0.20MPa / 20L/min 1 ¼” UJR
HCL 0.20MPa / 20L/min 1 ¼” UJR
Air/N2 0.6MPa 1 ¼” UJR
Power:
Heater: 1Φ208V, 50KVA
Control: 1Φ208V, 9KVA
2000 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-853V-8BL2是一種專門為基礎研究和半導體應用而設計的擴散爐。它是一種高性能的單層爐設備，能夠將溫度提升至1300 °C，同時提供均勻的熱處理。該系統主要用於各種材料的沈積、外延、退火、氧化和擴散，包括半導體、金屬和粉末。擴散爐由三個主要部件組成：主體，裝有電子和溫度控制部件；循環風扇和空氣淋浴裝置；和底座組件。主機組由爐體、電子溫度計、背側安裝的氣體加熱單元和冷卻風扇組件組成。冷卻風扇組件可以有效地從爐子中除去熱量和溫度變化。該爐設有電路保護真空密封，提供最佳溫度控制。HITACHI DD-853V-8BL2中的循環風扇和空氣淋浴機確保了均勻的熱處理。該單元由一個頂級電氣控制器-子控制器、一個轉子式鼓風機風扇和一個三相電動機組成。循環風扇與集成的空氣淋浴工具一起，有助於在室內實現均勻的溫度分布。KOKUSAI DD-853V-8BL2設計方便操作。主體采用人體工程學設計，具有易於使用的控制面板，便於監控和調整加工溫度。DD-853V-8BL2為實驗室環境提供可靠、強大的擴散爐技術。它是專門為基礎研究和半導體應用而設計的，可以在均勻熱處理的情況下達到高達1300 °C的溫度。該單元采用方便的控制面板，易於使用和維護。這種高性能擴散爐非常適合任何需要精確溫度控制的研究實驗室或半導體生產設施。
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