二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206V-DF #9251678 待售

HITACHI / KOKUSAI DJ-1206V-DF
ID: 9251678
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
LPCVD Systems, 12" Quixace 2 2007 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-1206V-DF是為半導體器件加工而設計的擴散爐。它是一種低壓化學氣相沈積(LPCVD)爐,能夠進行高達1000 °C的高溫反應過程。這種高熱處理溫度使得HITACHI DJ-1206V-DF一種用途廣泛的工具,非常適合從退火到氧化、氮化甚至矽外延等應用。擴散爐和附件是一個單元,從而使安裝和操作更加容易。它具有一個LPCVD腔室,該腔室具有3 ″直徑的石英視口,用於清潔工藝和樣品的內聯視覺。該單元還帶有一個四區控制器,允許在每個特定的工藝區域內進行精確的溫度控制。控制器與燃氣選擇設備、超靈敏高溫計和石英采樣管集成在一起,可實時反饋溫度和其他過程相關讀數。擴散爐采用獨有的漂移控制系統設計,保證每個區域溫度的精確控制。這樣可以確保所有級別和所有過程的溫度穩定性和準確性。該單元還提供了允許創建復雜層結構的過程靈活性。所有這些功能確保了一個可重復和可靠的過程。為了增加安全性,該單元采用了最先進的九點保護單元。該安全機器監控氣流、壓力、溫度和腔室含量,以保護制造環境。此外,還添加了隔熱蓋,以減少能源消耗並最大程度地降低噪聲水平。為方便起見,擴散爐配有各種配件.這包括一個360度的物料拾取臂,允許在所有加工區中完全進入樣品。它還包括一個用於降低氧化風險的凈化站,以及一個用於溫度精度驗證的多區標定站。最後,該單元通過計算機集成軟件工具進行控制,從而實現最大程度的控制和靈活性。KOKUSAI DJ-1206V-DF擴散爐是一種先進的設備,其性能最佳,控制精度高,安全性高。其種類繁多的附件使高度專業化的流程能夠快速輕松地執行。這種最先進的設備非常適合所有半導體器件的加工需要.
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