二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DF #9377433 待售

HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DF
ID: 9377433
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
PECVD System, 12" Process: ALD 2012 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN-DF是一種最先進的擴散爐,具有先進的特點,適用於廣泛的應用。擴散爐使用先進的真空設備將薄膜層沈積在晶圓上。該技術用於高性能設備,如微處理器,以及大規模生產集成電路。HITACHI DJ-1206VN-DF提供卓越的精度,以滿足高精度處理要求。這是由於其高品質的真空系統能夠達到1 x 10-7 Torr的保持真空。此外,擴散爐的溫度均勻性令人難以置信,±為1 °C,可達到1250 °C的溫度。除了溫度均勻性外,KOKUSAI DJ-1206VN DF還配備了一個保溫單元,該單元經過調諧,可以高效傳遞內部熱量,減少熱不穩定性。這樣可以確保在加工過程中保持一致和準確的溫度曲線,從而提高優質產品的產量。KOKUSAI DJ-1206VN-DF還采用了一種集成了鉬和石墨屏蔽的石墨敏感器,以提供有效的防熱輻射緩沖。磁感器在導軌上升高和降低,以便更容易地引入和提取工藝基材和晶片。此外,擴散器還配備了一個旋轉電動轉盤,以更好地旋轉晶片通過磁感器,從而獲得更一致的沈積。DJ-1206VN DF還包括一個集成電源控制單元(PCU),可用於通過預定義的設定點監控和測量機器的電力吸收。這有助於提高處理結果的準確性和可重復性。最後,HITACHI DJ-1206VN DF得到了一些附件的進一步加強,為用戶提供了擴散過程的綜合工具。其中包括液氮源、供氣資產和工藝氣體監測模型。擴散爐還包括自動化過程控制等功能,以及過程映射和調諧算法,以確保最佳的處理結果。總之,DJ-1206VN-DF是一種具有先進特點和配件的特殊擴散爐。其高精度真空設備、溫度均勻性、絕緣系統和集成石墨敏感器相結合,提供高效準確的單元。此外,一系列附件,包括液氮源和工藝氣體監測機,進一步擴大了工具的潛力。這些特性使HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN DF成為任何基於擴散的過程的理想選擇。
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