二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN #9377460 待售

HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN是一種擴散爐及附件，專為半導體晶片的快速熱處理而設計。它是熱氧化、擴散、氮化和其他要求亞微米精度和可重復性的苛刻應用等過程的理想工具。該爐具有完整的軟件控制操作，允許晶片的高效和保形加熱。該爐設計用於需要一致擴散和其他熱過程的制造生產線。它具有垂直輪廓配置，可以容納一批四個（200mm/8"）晶片。該爐還可以容納三個75毫米（3英寸）晶圓和一個100毫米（4英寸）晶圓，使得它既適合大小晶圓加工。該爐設有獨特的擴散裝置，由兩個熱電控制器和一個可編程的溫度調節設備組成。這樣可以實現嚴格控制的加熱和冷卻循環,提供可重復的結果。HITACHI DJ-1206VN的溫度範圍為300 °C ~ 1300 °C。KOKUSAI DJ1206VN還具有先進的安全系統，為用戶提供操作人員的安全和免受危險條件的環境保護。這些保護裝置內置在設備的設計中,當晶片在900°C以上的溫度下保持超過5分鐘時,包括鎖定操作機器。該爐還提供8種可編程氧化/氮化/擴散/退火工藝，為用戶提供執行最具挑戰性的熱工藝的靈活性。它還為每個進程提供4個可編程的時間步驟。精密的控制工具始終保持對工藝溫度的嚴密控制，防止熱失控和溫度過高。此外,DJ-1206VN還配備了計時器和數據通信功能,為用戶提供了監視和記錄每個過程的溫度和時間的能力,從而可以輕松評估結果。綜上所述，KOKUSAI DJ-1206VN是一種擴散爐及其附件，專為半導體晶片的快速熱處理而設計。它非常適合熱氧化、擴散、氮化等要求亞微米精度和可重復性的苛刻應用。HITACHI DJ1206VN具有垂直配置、兩個熱電控制器、可編程溫度調節資產、高級安全模型、8種可編程過程、4個可編程時間步長、計時器和數據通信功能,使用戶能夠有效、精確地對晶片進行熱處理。