二手 HITACHI / KOKUSAI DJ-802V-H #293595916 待售

ID: 293595916
優質的: 2012
LPCVD Furnace 2012 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-802V-H是一種高效可靠的擴散爐和附件包裝,專為快速有效的熱處理而設計。它能夠提供高達1200 °C的溫度,並且與包括矽、金屬、陶瓷和聚合物在內的各種基板兼容。其卓越的保溫設計確保了卓越的溫度均勻性和可重復性,為用戶提供了每個周期的可靠結果。該腔室配備了高真空傳感器和腔室壓力監測儀,允許極其精確的真空讀數,以及壓力控制,以滿足從0.15 Pa到大氣的需求。該裝置還配備了重型晶片處理設備和用於晶片熱映射的「探針」系統。集成的計算機控制型PID溫度控制器,提供穩定的溫度控制和可重復的加熱曲線,而合金消聲器和石墨加熱器則提供快速的加熱和冷卻速率。腔室結構由SUS304和法蘭設計組成,使腔室更穩定、操作更安全。腔室有三個標準端口,允許安裝多條再循環管道,使溫度控制更加容易。內置的晶片裝卸平臺也允許雙向移動,避免與耐熱材料碰撞。隨附的附件為成功的熱處理運行提供了所有必要的工具。高性能石英管提供高溫快速加熱,使操作者更加安全。它是為與多種基板兼容而設計的。該爐還配有2個氣體開關裝置、一個EGA氣體混合器和一個用於精確氣體控制的氣體壓力監測器。支撐排氣單元用氣壓監測儀監控氣流,確保運行可靠、安全。提供了一個獨立的冷卻排水系統,以幫助冷卻設備,允許熱氣從爐子流向排氣機。此外,經過調整的機蓋還提供了額外的保護,並為其他外圍設備提供了連接端口。HITACHI DJ-802V-H擴散爐和附件包裝是一個理想的解決方案,在應用中,精度和可重復性是必須的。其卓越的設計和特點確保了最佳性能、均勻性和可靠性。這種高效的動態腔室具有廣泛的相容基板,能夠滿足任何熱加工專業人士的需求。
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