二手 HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF #293744333 待售

HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF是一種最先進的擴散爐及配套配件，旨在滿足半導體制造業的高需求。該設備集成了先進的技術和精確的控制機制，以促進半導體器件生產中至關重要的擴散過程。HITACHI Quixace DJ-1226V-DF擴散爐具有強大的設計和緊湊的占地面積,非常適合空間非常高的清潔環境。該爐采用垂直管配置，最大限度地提高了工藝效率，同時最大限度地減少了整個系統的占地面積。垂直布局還有助於在整個工藝室內均勻分配氣體和傳熱，確保一致可靠的效果。這個擴散爐配備了高性能的加熱單元，利用輻射和對流加熱元件的組合來實現精確的溫度控制。該機器能夠達到高達1200攝氏度的溫度，從而能夠準確、高效地執行各種擴散過程。加熱工具由先進的溫度控制資產加以補充，該資產利用先進的PID算法在晶圓表面保持嚴密的溫度均勻性。KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF具有全面的氣體輸送模型，能夠在擴散過程中精確控制氣體流量和成分。設備配備質量流量控制器，提供準確穩定的氣體流速，確保批量再現效果。此外，氣體輸送系統旨在最大限度地減少氣體消耗和廢物，降低運營成本和環境影響。為提高工藝靈活性，Quixace DJ-1226V-DF擴散爐配備了一個多區工藝室，允許在晶圓表面應用不同的溫度剖面。此功能對於執行需要精確溫度梯度或坡度速率的復雜擴散過程特別有用。該單元還包括一個旋轉晶片載體，確保均勻暴露於工藝氣體和熱量，進一步提高工藝均勻性和可重復性。除了核心擴散爐外，HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF還配有一系列可以量身定制以滿足特定工藝要求的配件和選件。這些附件包括額外的氣體管線、定制晶圓載體、石英器保護套件以及高級工藝監控工具。該機器還與各種自動化和控制軟件包兼容，允許無縫集成到現有的制造工作流程中。總體而言,HITACHI Quixace DJ-1226V-DF擴散爐和配件代表了一個前沿的解決方案,適用於希望以卓越的精度和可靠性實現高性能擴散過程的半導體制造商。它具有先進的功能、堅固的設計和可定制的選項,使其成為適用於各種半導體制造應用的通用且經濟實惠的解決方案。