二手 HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF #293711268 待售
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ID: 293711268
晶圓大小: 12"
優質的: 2016
Vertical LPCVD Furnace, 12"
Heating element
(2) Port loaders
Power rack
Spare parts
Cables
2016 vintage.
引言：HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF是一種先進的擴散爐，設計用於半導體晶片的精確和均勻熱處理。這款先進的設備配備了一系列創新功能和配件，使其非常適合在半導體行業中需要卓越性能和可靠性的大批量生產環境。主要特點：HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF擴散爐是一種具有頂載配置的垂直爐系統，可方便地進入晶圓裝卸的加工室。該機組配備了一個大容量的船裝載機，可容納多個晶圓載波，最大限度地提高吞吐量和效率。爐膛由高純度石英材料構成，保證了優良的隔熱和耐化學反應，從而最大限度地減少了汙染，確保了高純度的加工。該機具有堅固的氣體輸送工具和精確的質量流量控制器，可精確控制過程中的氣體流量，從而能夠精確控制過程條件。KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF擴散爐配備了高性能的加熱設備，能夠使溫度快速上升和下降，確保晶圓的快速和高效處理。該模型采用多區加熱配置，對每個加熱區進行獨立的溫度控制，從而實現晶圓表面的精確溫度均勻性。工藝控制和監測：Quixace DJ-1236VN-DF擴散爐配備了精密的工藝控制設備,可精確控制工藝參數,包括溫度、氣體流量和坡道速率。該系統具有直觀的用戶界面，可以方便地編程流程配方和實時監控流程參數。該裝置配備了先進的溫度控制算法和反饋機制，確保整個晶圓表面的精確溫度控制和均勻性。該機還配備了綜合安全聯鎖工具，確保爐子的安全運行，並保護資產免受潛在危害。附件和選項：HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF擴散爐提供一系列附件和選件,以增強其能力並根據特定工藝要求進行定制。可選功能包括用於自動晶片處理的負載鎖定室、用於工藝室疏散的真空泵模型以及用於在處理過程中監視晶片位置和溫度的晶片映射設備。該系統可配置各種工藝氣體輸送選項，包括摻雜氣源和載氣控制模塊，以實現廣泛的擴散過程。該單元還可以配備先進的晶圓跟蹤機，使晶圓在整個處理周期中都具有可追蹤性。結論：HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF擴散爐是一種在半導體晶片加工過程中提供精度、可靠性和效率的高性能工具。憑借其先進的功能、直觀的用戶界面和各種附件,此資產非常適合在半導體行業的熱處理應用中需要卓越性能和控制的大批量生產環境。
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