二手 HITACHI KOKUSAI Quixace LV #9293900 待售

HITACHI KOKUSAI Quixace LV擴散爐及配件設計用於半導體等器件的高質量加工。該設備配備了先進的高溫技術，確保了整個晶片上可重復的溫度均勻性。它利用兩層整體爐來保護基板免受外部溫度波動的影響，並控制熱梯度。爐的最高溫度為1400°C，溫度分布優於± 7°C。它還具有先進的熱預報功能，以提高準確性和減少過程時間。Quixace LV系統采用單一的鋁化石墨絕緣單元，有助於在較高的溫度下保持較高的溫度均勻性。它還提供了堅固的絕緣，以防止熱量流失，這有助於節省過程中的能量。這臺機器完全自動化，並與AmpleX™配方開發和執行平臺相集成，以實現最佳的效率。HITACHI KOKUSAI Quixace LV還具有高級循環控制功能。這允許以最小的偏移精確控制溫度和時間相關的擴散過程。該爐由多種配件進一步支撐，包括無石英風箱、無石英升降機和三角洲電阻加熱工具。這些配件進一步提升了資產的性能，提供了卓越的業績。Quixace LV模型最多可用於八個爐子，並包括各種先進的安全特性。它配備了更高容量的排氣裝置、緊急關閉閥、低級互鎖設備和過溫防護功能。此外，它還配備了一個粒子陷阱加熱器、一個氣體預處理單元和一個陶瓷晶圓工藝模塊，可協同工作以實現高效運行。HITACHI KOKUSAI Quixace LV可與各種基材搭配使用，包括矽、矽基化合物、矽氧化物等材料。該系統非常適合半導體制造,因為它在一個可靠的平臺中提供卓越的性能、增強的安全功能和先進的工藝技術。