二手 KOKUSAI CX-3000 #293762972 待售

KOKUSAI CX-3000
ID: 293762972
晶圓大小: 12"
Diffusion furnace, 12" P/N: DD-1223VN Process: SI3N4 Main controller: CX3010 / CX3010B Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase.
KOKUSAI CX3000是為高性能半導體制造工藝而設計的尖端擴散爐。這種先進的設備提供對溫度、壓力和氣流的精確控制,以確保在晶圓基板上均勻且可重現的薄膜沈積。KOKUSAI CX-3000配備了先進的加熱元件和氣體輸送系統,非常適合半導體行業的研究和生產應用。CX3000具有高溫管式爐,可達到1200 °C的溫度,可沈積各種薄膜和層。管式爐采用優質石英材料,保證了晶片表面良好的熱穩定性和均勻的溫度分布。這種設計特性對於在一個批次中跨多個晶片實現一致和可靠的薄膜性能至關重要。此外,CX-3000還配備了先進的氣體輸送系統,能夠精確控制各種工藝氣體的流量,如摻雜劑、氧化劑和前體。這種控制水平對於調整沈積過程以滿足特定材料要求和設備性能規範至關重要。先進的氣體輸送裝置還最大限度地減少了氣體消耗,並確保了清潔的工藝環境,從而產生了具有最低雜質的高質量薄膜沈積。除了先進的供暖和氣體輸送系統外,KOKUSAI CX3000還具有直觀的用戶界面,使操作員能夠輕松編程和監控沈積過程。該機配備了觸摸屏顯示屏,使操作員能夠精確設置溫度配置文件、氣體流量以及其他工藝參數。用戶友好的界面還包括實時監測和數據記錄功能,這些功能為操作員提供了有關沈積過程的寶貴見解,並能夠對過程條件進行快速故障排除和優化。KOKUSAI CX-3000可以容納高達300 mm的晶圓尺寸,使其適合廣泛的半導體制造應用,包括邏輯器件、內存器件和電源器件。該工具與各種晶圓材料兼容,如矽、砷化的和碳化矽,允許跨越不同半導體材料平臺的多功能沈積能力。CX3000還提供了過程定制方面的靈活性,使操作員能夠針對特定設備要求和性能目標開發和優化沈積過程。總體而言,CX-3000是一種先進的擴散爐,它結合了先進的技術、精確的控制和用戶友好的操作,為半導體制造應用提供高性能的薄膜沈積。KOKUSAI CX3000具有強大的設計、多用途的功能和直觀的界面,是研究人員和半導體制造商尋求開發性能和可靠性卓越的下一代設備的寶貴工具。
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