二手 KOKUSAI CX-5000 #293762571 待售
網址複製成功!
ID: 293762571
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Diffusion furnace, 12"
P/N: DJ-1206VN-DF
Process: TiN
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase
2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000是一種用於半導體器件制造擴散過程的擴散爐及其配件。它采用高溫設計,為包括硼、磷和砷摻雜在內的各種擴散過程提供出色的性能。它適用於四英寸、六英寸和八英寸的晶圓尺寸,采用250毫米石英加工管設計,溫度均勻。這種擴散設備配有尼康顯微鏡,用於觀察晶片在熔爐中的情況,以便快速目視檢查。CX-5000有三個單獨的工藝區:預熱區、擴散區和冷卻區。預熱區設計有強加熱器,在晶片進入擴散區之前均勻加熱,獨立於擴散區,使其在低於擴散區的溫度下運行。這種設計可確保晶片在預熱區內的整個溫度均勻,並防止熱梯度在進入擴散區後形成。擴散區具有高溫設計,具有穩定的溫度,用於整個系統的精確擴散過程。高溫設計在800至1150攝氏度的溫度下運行,允許硼、磷、砷摻雜劑擴散加工。擴散區還包括自動抽樣室刮水器,用於高效清洗。KOKUSAI CX-5000擴散爐還配備了內置供氣罐、真空泵和氣體監控器,以提高過程控制和安全性。CX-5000擴散爐冷卻區提供了高效、快速的冷卻過程。它配備了兩級冷卻裝置,以每分鐘50攝氏度的最大冷卻速率運行。冷卻區可防止晶圓在冷卻過程中破裂,並提高機器性能。KOKUSAI CX-5000擴散器還包括許多增加準確性和性能的附加功能,例如一個連續監控每個樣品溫度的E-scope、一個帶有警報輸出的最大功率監視器以及一個風扇式冷卻工具,以減少設備在擴展擴散過程中的加熱。CX-5000是高溫擴散過程的理想選擇,因為它具有高溫度和優異的性能。該擴散爐具有先進的特點和性能,是各種矽器件制造工藝的理想選擇。
還沒有評論