二手 KOKUSAI CX-5000 #293763015 待售
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ID: 293763015
晶圓大小: 12"
優質的: 2010
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN -DF
Process: SI3N4
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase
2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000是由KOKUSAI Semiconductor Equipment Corporation開發的最先進的擴散爐及其相關配件。這一創新平臺為半導體制造所需的精確高效的擴散過程提供了先進的能力。CX-5000通過提供高水平的性能、可靠性和靈活性來滿足半導體行業的苛刻需求。KOKUSAI CX-5000設備的核心是擴散爐本身,它是矽片熱處理的關鍵部件。該爐設計為提供精確的溫度控制、均勻的熱分布和受控的氣流,以達到最佳的擴散效果。爐膛采用優質材料制成,能承受高溫和腐蝕性氣體,保證長期耐久性和可靠性。CX-5000爐具有先進的加熱元件,能夠快速加熱和冷卻循環,從而能夠高效加工晶片。該系統配有多個加熱區,可以獨立控制,以針對不同的工藝需求創建定制的熱剖面。這種控制水平使得擴散過程參數的精確調諧能夠在半導體器件中實現所需的摻雜輪廓和結深。爐膛的設計可以容納各種晶圓尺寸,從研發中使用的小直徑晶圓到生產環境中常用的較大晶圓不等。這種靈活性使半導體制造商能夠在同一平臺上處理不同類型的晶圓,減少了對多種加工工具的需求,簡化了生產流程。除了爐膛外,KOKUSAI CX-5000單元還包括一系列附件和外圍設備,以增強其能力和功能。這些附件可能包括氣體輸送系統、真空泵、晶圓處理機器人和過程監測工具。氣體輸送機確保將摻雜氣體精確、受控地輸送到爐膛,而真空泵則保持擴散過程所需的真空水平。晶片處理機器人將晶片的裝卸自動化到爐膛,降低了汙染風險,提高了整體工藝效率。機器人配備了先進的傳感器和控制系統,以確保晶片在加工過程中的精確定位和對準。過程監測工具,如溫度傳感器、氣體流量計和壓力表,提供過程參數的實時數據,使擴散過程能夠持續監測和調整。這種數據驅動的方法確保了一致和可重復的結果,從而提高了產品產量並改進了質量控制。總體而言,CX-5000擴散爐及其相關配件為半導體制造商提供了一個可靠和高性能的解決方案,以滿足其熱處理需求。該工具的高級功能、精確的控制功能和靈活性使其成為在半導體制造過程中實現最佳擴散結果的寶貴工具。借助KOKUSAI CX-5000,半導體制造商可以期待提高工藝效率、降低運營成本和提高產品質量,最終在快速發展的半導體行業中獲得競爭優勢。
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