二手 KOKUSAI CX-5000 #293763031 待售
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ID: 293763031
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1236VN -DF
Process: ALD
Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase
2015 vintage.
KOKUSAI CX-5000是為半導體制造應用中的超高溫加工而設計的最先進的擴散爐設備。這種先進的熔爐提供了對溫度和大氣的精確控制,以確保摻雜劑向矽片基板的最佳擴散。除了主要的擴散爐單元外,CX-5000還輔以一系列附件和外圍設備,以增強其功能和性能。KOKUSAI CX-5000主爐室由高純度石英管構成,具有堅固的加熱元件系統,提供均勻穩定的溫度控制。該裝置配備了先進的氣體輸送和混合系統,以創造擴散過程所需的精確工藝大氣。擴散爐可達到高達1200攝氏度的溫度,使其適用於包括砷、磷、硼摻雜在內的廣泛擴散過程。CX-5000的一個關鍵特點是其先進的溫度控制機,它利用多個熱電偶和一個復雜的PID控制算法來維持整個晶圓表面的高度精確的溫度剖面。這種溫度均勻性確保了一致和可靠的擴散結果,對於實現半導體制造過程的嚴格控制至關重要。為增強KOKUSAI CX-5000的功能,提供了一系列附件和外圍設備,包括快速熱退火(RTA)模塊、真空傳遞室和晶圓處理工具。RTA模塊允許快速加熱和冷卻晶片以進行退火過程,而真空傳輸室則允許晶片在工藝模塊之間無縫傳輸,以盡量減少汙染並減少停機時間。CX-5000晶圓處理資產設計用於高吞吐量制造,單晶圓或多晶圓加工選項,以滿足半導體生產設施的需求。該模型結合了智能晶圓映射和跟蹤功能,以確保在處理過程中準確定位和對齊,進一步提高過程的可重復性和產量。除了硬件組件外,KOKUSAI CX-5000還得到了提供直觀流程編程和控制接口的綜合軟件包的支持。該軟件允許用戶創建和編輯流程配方,監控實時流程參數,並生成詳細的流程分析和優化報告。總體而言,CX-5000擴散爐設備提供了先進技術、精密控制和通用配件的組合,使其成為半導體擴散過程的可靠和高效的解決方案。KOKUSAI CX-5000具有高溫、溫度均勻性和全面的自動化功能,非常適合需要卓越工藝性能和產量的大容量半導體制造環境。
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